[发明专利]腔室部件、抗等离子体盖或喷嘴及制造制品的方法在审
| 申请号： | 201711374831.5 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN107964650A | 公开（公告）日： | 2018-04-27 |
| 发明（设计）人： | J·Y·孙;B·P·卡农戈;V·菲鲁兹多尔;Y·张 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;C23C14/08;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 杨学春,侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于处理腔室的腔室部件、抗等离子体盖或喷嘴及制造制品的方法。制造制品的方法包含提供用于蚀刻反应器的盖或喷嘴。随后执行离子辅助沉积(IAD)以在盖或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是具有小于300μm的厚度以及10微英寸或更小的平均表面粗糙度的抗等离子体的稀土氧化物膜。 | ||
| 搜索关键词： | 部件 等离子体 喷嘴 制造 制品 方法 | ||
【主权项】：
一种用于处理腔室的腔室部件，包括：陶瓷主体，所述陶瓷主体具有至少一个表面，所述至少一个表面具有8‑16微英寸的第一平均表面粗糙度；以及在所述陶瓷主体的所述至少一个表面上的共形保护层，其中所述共形保护层是包含40‑100mol％的Y2O3、0‑60mol％的ZrO2和0‑10mol％的Al2O3的抗等离子体稀土氧化物膜，所述共形保护层在所述至少一个表面上面具有小于300μm的均匀厚度，并且所述共形保护层具有小于10微英寸的第二平均表面粗糙度，其中所述第二平均表面粗糙度小于所述第一平均表面粗糙度。
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