[发明专利]光学蒸发真空镀膜机在审
| 申请号： | 201711338190.8 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN109957755A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 黄乐;孙桂红;祝海生;陈立;凌云;黄夏;黄国兴 | 申请（专利权）人： | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 张超宇;冯子玲 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了光学蒸发真空镀膜机，包括一镀膜腔、一蒸发器和两加热器，所述蒸发器包括一顶面设置喷嘴的壳体，所述壳体中部设有缓冲部，所述缓冲部远离喷嘴的一面连接有与蒸镀原材料室相连的加热管道，所述加热管道向喷嘴方向延伸，所述加热器分别平行的立设于镀膜区两侧，且其中一加热器穿过蒸发器缓冲部，待镀膜基片悬设于另一加热器面向蒸发器一侧。本发明提供的光学蒸发真空镀膜机利用三步共蒸发工艺制备铜铟镓硒薄膜，采用基于线型蒸发器的立式共蒸发系统来实现制备尺寸不小于40×60cm2的铜铟镓硒薄膜，实现二维尺度上大面积薄膜的均匀生长。 | ||
| 搜索关键词： | 加热器 蒸发器 蒸发真空 喷嘴 镀膜机 缓冲部 铜铟镓硒薄膜 加热管道 共蒸发 大面积薄膜 线型蒸发器 镀膜基片 二维尺度 方向延伸 工艺制备 壳体中部 镀膜腔 镀膜区 顶面 壳体 悬设 蒸镀 制备 平行 穿过 生长 | ||
【主权项】：
1.光学蒸发真空镀膜机，其特征在于：包括一镀膜腔、一蒸发器和两加热器，所述蒸发器包括一顶面设置喷嘴的壳体，所述壳体中部设有缓冲部，所述缓冲部远离喷嘴的一面连接有与蒸镀原材料室相连的加热管道，所述加热管道向喷嘴方向延伸，所述加热器分别平行的立设于镀膜区两侧，且其中一加热器穿过蒸发器缓冲部，待镀膜基片悬设于另一加热器面向蒸发器一侧。
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