[发明专利]TFT-LCD减薄镀膜生产线在审
| 申请号： | 201711336540.7 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN109957777A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 黄乐;祝海生;陈立;凌云;黄夏;孙桂红;黄国兴 | 申请（专利权）人： | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 冯子玲 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开一种TFT‑LCD减薄镀膜生产线，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述工艺室包括多个磁控溅射腔，所述磁控溅射腔设有旋转阴极，多个所述磁控溅射腔的旋转阴极不全位于同一侧；所述生产线还包括传送系统，所述传送系统包括磁导向摩擦传动装置。本发明的TFT‑LCD减薄镀膜生产线，可以适用于各种面积的基片溅射，镀膜效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜生产线 磁控溅射 减薄 传送系统 旋转阴极 传送室 工艺室 缓冲室 摩擦传动装置 镀膜效果 出口室 磁导向 进口室 溅射 进口 出口 | ||
【主权项】：
1.一种TFT‑LCD减薄镀膜生产线，其特征在于，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述工艺室包括多个磁控溅射腔，所述磁控溅射腔设有旋转阴极，多个所述磁控溅射腔的旋转阴极不全位于同一侧；所述生产线还包括传送系统，所述传送系统包括磁导向摩擦传动装置。
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