[发明专利]双面镀膜生产线的镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201711336448.0 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN109957766B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 黄乐;祝海生;陈立;凌云;黄夏;孙桂红;黄国兴 申请(专利权)人: 湘潭宏大真空技术股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50
代理公司: 湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙) 43262 代理人: 安曼
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开一种双面镀膜生产线的镀膜装置,包括镀膜箱体和磁控溅射装置,所述磁控溅射装置设有箱体内,所述箱体内基片架位置设有磁铁,所述箱体的侧板设有磁场;所述箱体内还设有旋转组件,所述旋转组件包括旋转电机和旋转架,所述旋转架的两侧设有定位盘,所述定位盘通过电机驱动转动,所述旋转电机驱动旋转架转动,所述定位盘上设有凹槽,所述基片架设于凹槽内。本发明的双面镀膜生产线的镀膜装置,该镀膜装置结晶性能好,提高了溅射效果。
搜索关键词: 双面 镀膜 生产线 装置
【主权项】:
1.一种双面镀膜生产线的镀膜装置,其特征在于,包括镀膜箱体(1)和磁控溅射装置,所述磁控溅射装置设有箱体(1)内,所述箱体(1)内基片架位置设有磁铁,所述箱体(1)的侧板设有磁场(6);所述箱体(1)内还设有旋转组件,所述旋转组件包括旋转电机(2)和旋转架(3),所述旋转架(3)的两侧设有定位盘(4),所述定位盘(4)通过电机驱动转动,所述旋转电机(2)驱动旋转架(3)转动,所述定位盘(4)上设有凹槽(41),所述基片架设于凹槽(41)内。
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