[发明专利]双面镀膜生产线的镀膜装置

说明书

本发明公开一种双面镀膜生产线的镀膜装置，包括镀膜箱体和磁控溅射装置，所述磁控溅射装置设有箱体内，所述箱体内基片架位置设有磁铁，所述箱体的侧板设有磁场；所述箱体内还设有旋转组件，所述旋转组件包括旋转电机和旋转架，所述旋转架的两侧设有定位盘，所述定位盘通过电机驱动转动，所述旋转电机驱动旋转架转动，所述定位盘上设有凹槽，所述基片架设于凹槽内。本发明的双面镀膜生产线的镀膜装置，该镀膜装置结晶性能好，提高了溅射效果。

技术领域

本发明涉及玻璃镀膜结构技术领域，尤其涉及一种双面镀膜生产线的镀膜装置。

背景技术

镀膜玻璃(Coated glass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。

镀膜玻璃的生产方法很多，主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶—凝胶法等。磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系，可在白色的玻璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好，是生产和使用最多的产品之一。真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空溅射法取代。化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解，均匀地沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃。该方法的特点是设备投入少、易调控，产品成本低、化学稳定性好，可进行热加工，是最有发展前途的生产方法之一。溶胶—凝胶法生产镀膜玻璃工艺简单，稳定性也好，不足之处是产品光透射比太高，装饰性较差。

目前的镀膜设备采用双面镀膜的方式，设备有正反两面区分，设备两边同时装有靶材，且装载玻璃的基片架也分正反两面，加热器装在真空室中心位置，上下为一个整体式，采用吊装方式悬空挂起，在镀膜过程中，在基片架的正反面分别装载玻璃，镀膜时装有玻璃的基片架在真空室内行走，基片架的正反面分别位于中间加热器的两侧，经过靶区通过磁控溅射的方式进行镀膜，这种方式一次只能镀玻璃的一面，如果玻璃的另外一面也需要镀膜，则必须镀完玻璃一面后，将镀完一面的玻璃重新经过清洗，然后再次经过真空室进行镀膜，即镀膜工序要重复两次才能完成，这样不但浪费人力、财力、产量低而且玻璃经过多次周转后其良率也会大大下降。

整个真空腔体的结构设计，一次只能完成玻璃基板单面的膜层制备，如果玻璃基板两个表面均需要制备膜层，现有技术的做法只能是制备完玻璃基板一个表面的膜层后，将玻璃基板再重复第一次镀膜的工序去完成第二面膜层的制备，这种工艺在第二次制备膜层的过程中，会对第一次膜层的性能有所影响，并且由于二次镀膜会造成良率的下降，总体生产成本较高。

发明内容

本发明要解决的技术问题就在于：针对现有技术存在的技术问题，本发明提供一种双面镀膜生产线的镀膜装置，该镀膜装置结晶性能好，提高了溅射效果。

为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：

一种双面镀膜生产线的镀膜装置，包括镀膜箱体和磁控溅射装置，所述磁控溅射装置设有箱体内，所述箱体内基片架位置设有磁铁，所述箱体的侧板设有磁场；所述箱体内还设有旋转组件，所述旋转组件包括旋转电机和旋转架，所述旋转架的两侧设有定位盘，所述定位盘通过电机驱动转动，所述旋转电机驱动旋转架转动，所述定位盘上设有凹槽，所述基片架设于凹槽内。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述磁场设于箱体的门板上。

所述磁场设有两个。

所述定位盘与旋转架之间设有轴承。

所述旋转电机位于箱体底板的下方，所述旋转电机通过转轴与旋转架连接，所述转轴与底板之间设有轴承。

所述磁铁位于旋转架下方。

与现有技术相比，本发明的优点在于：