[发明专利]薄膜晶体管与薄膜晶体管的制作方法及膜层刻蚀工艺

摘要

一种薄膜晶体管与薄膜晶体管的制作方法及膜层刻蚀工艺，其中，膜层刻蚀工艺用于对薄膜晶体管的膜层进行刻蚀，膜层的第一表面上形成有光刻胶，光刻胶包括预设图案的预留光刻胶和残留光刻胶，膜层刻蚀工艺包括如下步骤：采用含O2气体对膜层进行预处理，以去除残留光刻胶，其中，预处理持续预设时长；采用第一刻蚀气体对膜层进行刻蚀处理。上述膜层刻蚀工艺，先采用含O2气体对膜层进行预处理，其中的O2气体经射频放电形成一定浓度的氧离子活性分子，氧离子活性分子与光刻胶发生反应，以去除残留光刻胶，使光刻胶的形貌恢复正常，避免需要刻蚀的那部分膜层被光刻胶遮挡，导致膜层的形貌也出现异常，从而影响薄膜晶体管的品质的情况出现。

主权项

1.一种膜层刻蚀工艺，用于对薄膜晶体管的膜层进行刻蚀，所述膜层的第一表面上形成有光刻胶，所述光刻胶包括预设图案的预留光刻胶和残留光刻胶，其特征在于，所述膜层刻蚀工艺包括如下步骤：采用含O2气体对所述膜层进行预处理，以去除所述残留光刻胶，其中，所述预处理持续预设时长；采用第一刻蚀气体对所述膜层进行刻蚀处理。