[发明专利]光电探测器与其制作方法有效

专利信息
申请号: 201711244398.3 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN108257946B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 张青竹;张兆浩;殷华湘;徐忍忍 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L25/04 分类号: H01L25/04;H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 韩建伟;谢湘宁
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供了一种光电探测器与其制作方法。该光电探测器包括:衬底;至少一个第一半导体层,设置在衬底的部分表面上,第一半导体层与衬底之间具有微腔,和/或相邻的第一半导体层之间具有微腔;多个第二半导体层,各第二半导体层为二维半导体材料层,光电探测器具有至少两个异质结,第二半导体层的设置方式选自以下方式中的一种或多种的组合:第二半导体层设置在微腔中并位于第一半导体层的表面上,设置在微腔中并位于衬底的表面上,设置在第一半导体层远离微腔的表面上;底电极,设置在衬底的远离第一半导体层的表面上;顶电极,与各异质结分别串联。该光电探测器的有效工作面积较大,光电探测器的响应度较大。
搜索关键词: 光电 探测器 与其 制作方法
【主权项】:
1.一种光电探测器,其特征在于,所述光电探测器包括:衬底(2);至少一个第一半导体层(3),设置在所述衬底(2)的部分表面上,所述第一半导体层(3)与所述衬底(2)之间具有微腔(8),和/或相邻的所述第一半导体层(3)之间具有微腔(8);多个第二半导体层(4),各所述第二半导体层(4)为二维半导体材料层,所述光电探测器具有至少两个异质结,所述第二半导体层(4)的设置方式选自以下方式中的一种或多种的组合:所述第二半导体层设置在所述微腔(8)中并位于所述第一半导体层(3)的表面上,设置在所述微腔(8)中并位于所述衬底(2)的表面上,设置在所述第一半导体层(3)远离所述微腔(8)的表面上;底电极(1),设置在所述衬底(2)的远离所述第一半导体层(3)的表面上;以及顶电极(7),与各所述异质结分别串联。
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