[发明专利]真空处理腔室中的氢分压控制

摘要

公开了真空处理腔室中的氢分压控制。本文所述的实施方式总体上涉及用于去除沉积系统中(诸如在气相沉积系统的真空前级管线中)发现的一种或多种处理副产物的方法。更具体地说，本公开的实施方式涉及减少系统中的氢积聚的方法。在另一实施方式中，提供了一种在沉积腔室中处理基板的方法。该方法包括在基板上沉积层，其中在沉积过程期间在与沉积腔室流体耦接的真空前级管线中产生含氢副产物。该方法还包括使氧化剂气体流入真空前级管线内，以与真空前级管线中的含氢副产物的至少一部分反应。

主权项

1.一种处理基板的方法，包括：使反应气体流动到含有含氢副产物的真空前级管线内；使所述反应气体与所述含氢副产物的至少一部分在所述真空前级管线中反应以形成反应产物，其中所述反应产物包含分子质量高于所述含氢副产物的分子质量的分子；以及将所述反应产物泵送出所述真空前级管线。