[发明专利]平衡质量装置与光刻系统有效
| 申请号： | 201711060734.9 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN109725498B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 丛国栋;舒嫚 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种平衡质量装置与光刻系统，所述的装置，包括：质量本体和缓冲结构，所述质量本体连接一曝光台，所述缓冲结构连接于所述质量本体与整机框架之间；所述缓冲结构用于，在所述质量本体相对预设初始位置发生偏离时，为所述质量本体提供与所述偏离相抵触的作用力，所述预设初始位置相对于所述整机框架的位置为固定的。利用缓冲结构的机械方式，相较于利用控制器和电机的方式，其成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 平衡 质量 装置 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种平衡质量装置，其特征在于，包括：质量本体和缓冲结构，所述质量本体连接一曝光台，所述缓冲结构连接于所述质量本体与整机框架之间；所述缓冲结构用于，在所述质量本体相对预设初始位置发生偏离时，为所述质量本体提供与所述偏离相抵触的作用力，所述预设初始位置相对于所述整机框架的位置为固定的。
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