[发明专利]一种光场调控光刻中的涡旋光剪切干涉调焦方法有效
| 申请号： | 201710944259.5 | 申请日： | 2017-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN107908076B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 梁宜勇;李雄风;詹世超;朱蓓蓓;墨洪磊 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光场调控光刻中的涡旋光剪切干涉调焦方法，它利用涡旋光的光场特性实现约束曝光，利用涡旋光的干涉特性实现调焦。从基片表面反射并经物镜透射的涡旋光束，在光学平行平板上进行剪切干涉。干涉图案当准焦时呈现对称性，当离焦时为非对称分叉图案，并且在正负离焦状态下其分叉图案正好相反，利用图案可实现调焦检测。本发明的调焦方法简单紧凑，涡旋光束一物两用，干涉调焦检测有很高的灵敏度，且干涉图案不受光源稳定性和光斑均匀性等影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调控 光刻 中的 涡旋 剪切 干涉 调焦 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光场调控光刻中的涡旋光剪切干涉调焦方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：（1）、写入光束（6）和涡旋光束（4）经合束器（5）合束后，依次经分束器（3）和物镜（2），入射到基片（1）；（2）、涡旋光束（4）经基片（1）反射后，经物镜（2）透射，分束器（3）反射，入射到光学平行平板（8）上，并在其表面产生剪切干涉，然后在面阵探测器（7）上形成干涉图案；（3）、若干涉图案呈现成对的分叉条纹且左支分叉开口向上、右支分叉开口向下时，减小基片（1）和物镜（2）之间的距离；若干涉图案呈现成对的分叉条纹且左支分叉开口向下、右支分叉开口向上时，增大基片（1）和物镜（2）之间的距离；若干涉图案呈现完全对称的双月形图案，表明基片（1）的表面位于物镜（2）的焦点处，实现光场调控光刻中的涡旋光剪切干涉调焦。
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