[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710931207.4 申请日: 2017-10-09
公开(公告)号: CN109634059B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 孙晶露;田毅强 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出的一种曝光装置,包括:光学透镜模块,所述光学透镜模块具有一孔径光阑,所述孔径光阑用于调整所述光学透镜模块的数值孔径,使所述光学透镜模块具备第一数值孔径和第二数值孔径;其中,所述第一数值孔径大于所述第二数值孔径;照明模块,用于提供一第一照明光源和一第二照明光源,且所述第一照明光源中心波长小于所述第二照明光源的中心波长,所述第二照明光源的谱线宽度大于所述第一照明光源的谱线宽度;本发明通过数值孔径与照明光源的选择与切换,实现了高分辨率模式与高产率模式的切换。进而,采用本发明所提供的曝光装置的曝光方法以及元件的制造方法均能实现高分辨率模式与高产率模式的切换。
搜索关键词: 曝光 装置 方法 以及 元件 制造
【主权项】:
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:光学透镜模块,所述光学透镜模块具有一孔径光阑,所述孔径光阑用于调整所述光学透镜模块的数值孔径,使所述光学透镜模块具备第一数值孔径和第二数值孔径;其中,所述第一数值孔径大于所述第二数值孔径;照明模块,用于提供一第一照明光源和一第二照明光源,且所述第一照明光源中心波长小于所述第二照明光源的中心波长,所述第二照明光源的谱线宽度大于所述第一照明光源的谱线宽度;当所述光学透镜模块的数值孔径为所述第一数值孔径时,所述照明模块提供所述第一照明光源,并照射至所述光学透镜模块;当所述光学透镜模块的数值孔径为所述第二数值孔径时,所述照明模块提供所述第二照明光源,并照射至所述光学透镜模块。
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