[发明专利]金属膜蚀刻液组合物及显示装置用阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 201710585309.5 | 申请日： | 2017-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN107630219B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 梁圭亨;金童基;金兑勇 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;H01L27/12 |
| 代理公司： | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 金鲜英;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属膜蚀刻液组合物及显示装置用阵列基板的制造方法，上述金属膜蚀刻液组合物包含A)过氧化氢(H | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻液组合物 金属膜 多元醇型表面活性剂 水溶性化合物 咪唑系化合物 蚀刻 烷基 含氟化合物 过氧化氢 显示装置 阵列基板 变化量 氮原子 硫酸盐 最小化 侧蚀 四唑 张数 锥角 羧基 制造 | ||
【主权项】：
1.一种金属膜蚀刻液组合物，其包含A)过氧化氢、B)含氟化合物、C)四唑系化合物、D)咪唑系化合物、E)一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物、F)硫酸盐、和G)多元醇型表面活性剂，/n所述C)四唑系化合物与D)咪唑系化合物的含量比率为1:20～20:1，/n所述C)四唑系化合物为选自由5-甲基-1H-四唑、5-苯基-1H-四唑、5-氨基-1-甲基四唑、5-苄基-1H-四唑、5-巯基-1-甲基四唑和1-甲基-1H-四唑组成的组中的一种以上。/n
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