[发明专利]蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法有效
| 申请号： | 201510516460.4 | 申请日： | 2015-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN105887089B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 廖本男;廖伯轩;张善钧;李盈壕;吕志鹏 | 申请（专利权）人： | 关东鑫林科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;C23F1/02 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法。具体地，本发明涉及一种蚀刻液组合物，包括：氧化剂，以该蚀刻液组合物总重计，该氧化剂的含量为5至15％；稳定剂，以该蚀刻液组合物总重计，该稳定剂的含量为5至20％；唑类化合物，以该蚀刻液组合物总重计，该唑类化合物的含量为0.005至0.2％；胺类化合物，以该蚀刻液组合物总重计，该胺类化合物的含量为5至20％；以及水性介质，能使蚀刻斜角介于30至60°之间，遂避免铜/钼的多层金属关键尺寸损失过大的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，包括：氧化剂，以该蚀刻液组合物总重计，该氧化剂的含量为5至15％；稳定剂，以该蚀刻液组合物总重计，该稳定剂的含量为5至20％，其中，该稳定剂为选自丙氨酸、谷氨酸、甘氨酸、乙醇酸、琥珀酸、胱氨酸、天冬酰胺、苹果酸、乙二胺四乙酸、丙二酸、亚胺二乙酸、乳酸、苯基脲、乙酰苯胺及苯酚磺酸所组成组的至少一者；唑类化合物，以该蚀刻液组合物总重计，该唑类化合物的含量为0.005至0.2％；胺类化合物，以该蚀刻液组合物总重计，该胺类化合物的含量为5至20％；以及水性介质，其中，该蚀刻液组合物，不含氟，且不含无机酸，pH值介于2至7。
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