[发明专利]一种面向采集的光场质量评价方法及光场成像系统在审
| 申请号： | 201710575348.7 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN107580212A | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 宋佳润;杨付正;关德鹏 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | H04N17/00 | 分类号： | H04N17/00 |
| 代理公司： | 西安长和专利代理有限公司61227 | 代理人： | 黄伟洪 |
| 地址： | 710071 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于光学成像技术领域，公开了一种面向采集的光场质量评价方法及光场成像系统，所述面向采集的光场质量评价方法包括根据实际应用条件判断光场场景内容是否已知；光场采集中直接获得的影响光场质量的因素；利用评估参数预测出光场质量。本发明分别针对场景内容未知及场景内容已知的光场质量进行客观评价，具有计算复杂度低，可靠性高的特点，能够根据不同的应用场景较准确的评价光场质量；可以对当前光场应用的质量进行有效的监控和评价；为光场相关技术、设备以及应用开发和创新提供有效的参考依据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 面向 采集 质量 评价 方法 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种面向采集的光场质量评价方法，其特征在于，所述面向采集的光场质量评价方法包括：步骤一，根据实际应用条件判断光场场景内容是否已知；步骤二，光场采集中直接获得的影响光场质量的参数；步骤三，根据步骤二获得的影响参数，计算评估因子；其中影响参数用于推导计算评估因子，利用评估因子预测光场质量；步骤四，利用评估因子预测出光场质量。
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