[发明专利]扫描曝光装置及器件制造方法

摘要

衬底处理装置(EX)包括：投影光学系统(PL)，使从照明区域(IR)产生的反射光束(L2)向衬底投射，从而在衬底形成光罩图案的像；光分离部(10)，使朝向照明区域的照明光和从照明区域产生的成像光束中的一方通过而使另一方反射；和照明光学系统(IL)，形成一次光源像，并将来自一次光源像的照明光照射于照明区域，并且在中心线与圆筒面之间形成与一次光源像光学共轭的第1共轭面。

主权项

一种扫描曝光装置，将形成于滚筒光罩的外周面上的反射型的光罩图案曝光到沿长度方向移动的挠性的片状衬底上，所述滚筒光罩围绕第1中心轴旋转，所述扫描曝光装置的特征在于，包括：照明光学系统，对设定于所述滚筒光罩的外周面的一部分的照明区域照射照明光；焦阑的投影光学系统，被入射来自显现在所述照明区域内的所述光罩图案的反射光，并在设定于所述片状衬底上的一部分的投影区域成像出所述光罩图案的像；和第1光学部件，为了使来自所述光罩图案的所述反射光在所述第1中心轴所延伸的方向和所述外周面的周向上分别成为焦阑状态，设置在所述照明光学系统内，并使在所述第1中心轴所延伸的方向上分布的所述照明光的主光线成为彼此大致平行的状态，使在所述外周面的周向上分布的主光线以其延长线在所述第1中心轴与所述外周面之间的中央位置或其附近位置交叉的方式成为彼此倾斜的状态。