[发明专利]一种TFT基板及制作方法

摘要

本发明提供了一种TFT基板及其制作方法，其中，所述制作方法包括提供一基板，在基板上形成遮光层，在遮光层上形成第一缓冲层，在第一缓冲层上形成第二缓冲层，在第二缓冲层上形成多晶硅层，通过同一光罩工序对遮光层、第一缓冲层、第二缓冲层和多晶硅层进行刻蚀，以一次性形成遮光图案、第一缓冲图案、第二缓冲图案和多晶硅图案，遮光图案、第一缓冲图案、第二缓冲图案和多晶硅图案四者的图案形状相同，且呈U型结构，以通过遮光图案对第一缓冲图案、第二缓冲图案和多晶硅图案进行遮光，第一缓冲图案、第二缓冲图案和多晶硅图案三者的表面平整，遮光层的宽度大于TFT基板中TFT的宽度。

主权项

一种TFT基板，其特征在于，包括基板、依次形成在基板上的遮光图案、第一缓冲图案、第二缓冲图案和多晶硅图案；所述遮光图案、所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述多晶硅图案通过同一光罩工序形成，所述遮光图案、所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述多晶硅图案四者的图案形状相同，且呈U型结构，以通过所述遮光图案对所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述多晶硅图案进行遮光；所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述多晶硅图案三者的表面平整，所述遮光图案的宽度大于所述TFT基板中TFT的宽度。