[发明专利]一种加工微纳器件的金属微滴喷射增材制造系统及方法有效

专利信息
申请号: 201710284018.2 申请日: 2017-04-26
公开(公告)号: CN107138729B 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 李辉;何凤良;申胜男;薛乾坤 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: B22F3/115 分类号: B22F3/115;B33Y30/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 魏波
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种加工微纳器件的金属微滴喷射增材制造系统及方法,系统由产生区、筛选区、转向区和加工区组成,且四区均为真空;产生区用于产生带电金属液滴,使液滴获得初速度;筛选区用于产生匀强电场和产生匀强磁场;转向区用于产生匀强电场和产生匀强磁场;加工区用于实现复杂微纳结构的打印加工,且不需要支撑等额外构架。本发明通过电场和磁场的组合,可实现带电金属液滴的精确控制;电磁场控制,对所产生的金属液滴进行筛选,可以确保进入加工区的液滴均满足条件,保证加工精度;可以打印具有复杂结构的微纳器件,且不需要加打印支撑等额外架构,节省材料,去掉了后续去除支撑的工序。
搜索关键词: 一种 加工 器件 金属 喷射 制造 系统 方法
【主权项】:
1.一种加工微纳器件的金属微滴喷射增材制造系统,其特征在于:由产生区(4)、筛选区(8)、转向区(12)和加工区(17)组成,所述产生区(4)、筛选区(8)、转向区(12)和加工区(17)均为真空;所述产生区(4)用于产生带电金属液滴,使液滴获得初速度;所述筛选区(8)用于产生匀强电场和产生匀强磁场;所述转向区(12)用于产生匀强电场和产生匀强磁场;所述加工区(17)用于实现复杂微纳结构的打印加工,且不需要支撑的额外构架;所述加工区(17)包括第三匀强电场发生器(18)、基板(19)、电极层(20)、放置层(21)、电压调节装置(22)和电荷调节装置(23);所述加工区(17)设置有加工区入口(16);所述第三匀强电场发生器(18)用于产生匀强电场,所述基板(19)用于加工和放置加工器件;所述放置层(21)为压电陶瓷层,在不同电压作用下产生相应的变形;所述基板(19)固定在电极层(20)上,基板(19)与电荷调节装置(23)相连;电极层(20)与电压调节装置(22)连接,通过电压改变,使得放置层(21)产生变形,调节基板(19)位置,实现基板(19)的定位。
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