[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201710064288.2 申请日: 2013-03-08
公开(公告)号: CN106597816B 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 加藤正纪;木内彻 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/24;G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;孙明轩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的基板处理装置具有:刻度部件,其具有刻设为环状的刻度部;处理机构,其在进入区域与脱离区域之间的圆周方向的特定位置上,在片状基板上形成图案;第1图案检测装置,其在第1检测区域内,检测沿长度方向离散或连续地形成在片状基板上的特定图案;第1读取机构,其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第1检测区域相同的方位上,并读取刻度部;第2图案检测装置,其在第2检测区域内,检测片状基板的特定图案;和第2读取机构,其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第2检测区域相同的方位上,并读取刻度部。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其将具有挠性的长条的片状基板卷绕在能够绕中心线旋转的旋转筒的圆筒状的外周面的一部分上而沿长度方向搬送,同时在由所述旋转筒支承的所述片状基板上形成图案,所述基板处理装置的特征在于,具有:刻度部件,其为了计测所述旋转筒的外周面的圆周方向上的位置变化而与所述旋转筒一同绕所述中心线旋转,并且具有刻设为环状的刻度部;处理机构,其在所述片状基板开始与所述旋转筒的外周面接触的进入区域与从所述外周面离开的脱离区域之间的圆周方向的特定位置上,在所述片状基板上形成图案;第1图案检测装置,其在沿着所述外周面的设定于所述进入区域与所述特定位置之间的第1检测区域内,检测沿所述长度方向离散或连续地形成在所述片状基板上的特定图案;第1读取机构,其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第1检测区域相同的方位,并读取所述刻度部;第2图案检测装置,其在沿着所述外周面的设定于所述特定位置与所述脱离区域之间、或设定于所述第1检测区域与所述特定位置之间的第2检测区域内,检测所述片状基板的所述特定图案;和第2读取机构,其从所述中心线观察而与所述刻度部相对地配置在与所述第2检测区域相同的方位,并读取所述刻度部。
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