[实用新型]一种电弧离子镀设备的双靶结构有效
| 申请号： | 201620703421.5 | 申请日： | 2016-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN205803583U | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 卢国英;石昌仑;石武昌;兰睿 | 申请（专利权）人： | 常州夸克涂层科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心21200 | 代理人： | 梅洪玉 |
| 地址： | 225600 江苏省常州市武*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种电弧离子镀设备的双靶结构。在一个蒸发源法兰设置两个靶位，在两个靶位中间，设置一台弧电源，即同一个蒸发源共用一台弧电源。涂层相同的涂层厚度，比如涂层厚度3微米，涂层时候从360min缩短到200min；可以扩展涂层种类，复合膜从2种材料扩展到4种材料；可以减少更换靶材的时间，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电弧 离子镀 设备 结构 | ||
【主权项】：
一种电弧离子镀设备的双靶结构，其特征在于，在一个蒸发源法兰(1)设置两个靶位(2)，在两个靶位(2)中间，设置一台弧电源(3)，即同一个蒸发源共用一台弧电源(3)。
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