[发明专利]光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法

摘要

本发明提供光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法，能够尽量减小清洗工序中产生异物的可能性，抑制光掩模坯体、光掩模制造工序中产生瑕疵的风险。一种用于形成转印用图案而成为光掩模的由透明材料构成的光掩模基板，具有用于形成转印用图案的第1主表面、位于反面侧的第2主表面、以及垂直于这些主表面的端面。在第1主表面的端部附近设有倾斜区域，该倾斜区域具有第1倒角面和设在第1主表面与第1倒角面之间的第1曲面。第1倒角面相对于第1主表面的倾斜角为50度以下且具有平面。第1曲面的曲率半径r1(mm)满足0.3r1，第1曲面以及第1倒角面的表面粗糙度Ra小于0.05μm。

主权项

一种由透明材料构成的光掩模基板，其用于形成转印用图案而成为光掩模，所述光掩模基板的特征在于，具有：用于形成所述转印用图案的第1主表面、位于所述第1主表面的反面侧的第2主表面、以及垂直于所述第1主表面及第2主表面的端面，在所述第1主表面的端部附近设有向平行于所述第1主表面的面投影的投影宽度为d0的倾斜区域，所述倾斜区域包括第1倒角面和设在所述第1主表面与所述第1倒角面之间的第1曲面，所述第1倒角面相对于所述第1主表面的倾斜角为50度以下，所述第1倒角面具有所述投影宽度为d1的平面，所述第1曲面的曲率半径r1满足0.3<r1，且所述第1曲面和所述第1倒角面的表面粗糙度Ra小于0.05μm，其中d0、d1、r1的单位为mm。