[发明专利]光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法

说明书

本发明提供光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法，能够尽量减小清洗工序中产生异物的可能性，抑制光掩模坯体、光掩模制造工序中产生瑕疵的风险。一种用于形成转印用图案而成为光掩模的由透明材料构成的光掩模基板，具有用于形成转印用图案的第1主表面、位于反面侧的第2主表面、以及垂直于这些主表面的端面。在第1主表面的端部附近设有倾斜区域，该倾斜区域具有第1倒角面和设在第1主表面与第1倒角面之间的第1曲面。第1倒角面相对于第1主表面的倾斜角为50度以下且具有平面。第1曲面的曲率半径r1(mm)满足0.3r1，第1曲面以及第1倒角面的表面粗糙度Ra小于0.05μm。

技术领域

本发明涉及一种光掩模基板，尤其涉及使用了该光掩模基板的光掩模坯体、光掩模。本发明具体涉及一种作为显示装置制造用的光掩模基板有优势的基板。

背景技术

用于形成转印用图案而作为光掩模的基板主要由合成石英玻璃等透明材料构成，对具有四边形的主表面的基板通过研磨等加工而进行制造。在基板的正反两个主表面的任意一个上形成转印用图案。转印用图案根据要获得的设备的设计形成，包括与元件或布线对应的细微的图案。由于该转印用图案的CD(Critical Dimension：临界尺寸)精度、坐标精度要求严格，因此基板的主表面通过精密的研磨被加工得平坦且平滑。

例如，专利文献1记载了一种透光性的光掩模用基板，其具有由正面和反面构成的主表面、形成于板厚方向的端面、和形成在端面与正面及反面之间的倒角面，端面和倒角面是表面粗糙度(Ra)为0.03～0.3μm的粗面。

此外，专利文献2记载了一种掩模坯体用基板，其由正反两个主表面和四个端面构成，该基板在端面上设置两个角部侧区域和夹在这两个角部侧区域中的中央侧区域，将角部侧区域的端面设为表面粗糙度Ra 0.5nm以下的镜面，将中央侧区域设为粗面。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-300566号公报

专利文献2：国际公开第2010/092937号

发明内容

发明所要解决的课题

在应用了液晶、有机EL等的显示装置(平板显示器：FPD)的制造中，多使用具有基于要获得的设备的设计的转印用图案的光掩模。作为设备，除了电视机或监视器以外，装配于智能手机或平板终端等的显示装置不仅要求明亮省电、动作速度快，还要求高分辨率、广视角等高画质。因此，对于上述用途中使用的光掩模具有的图案，具有要求高密度化、高集成化的趋势，前所未有地强烈希望所利用的光掩模的图案微型化。此外，与这样的趋势同时提高了对光掩模基板的品质要求，因此与CD(Critical Dimension：临界尺寸)精度或坐标精度一起，对于瑕疵的控制、即无瑕疵化也要求严格的标准。

光掩模基板主要使用具有正反两个主表面和四个端面的透明基板。大多数透明基板使用石英玻璃等对用于光掩模曝光的光具有高透射率的透明材料来制造。形成有转印用图案的主表面被实施镜面研磨，具有规定的平滑度(例如Ra值为0.2nm以下等)。

另一方面，对于光掩模基板的端面，按照与主表面不同的基准进行加工。具体地，显示装置用的光掩模基板尺寸相对较大(例如一边为300～1500mm、厚度为5～13mm左右)，重量也大。操作这样的大型基板时，在由人手进行保持的情况下，若基板端部过于平滑，则存在基板在与手之间滑动而下落的危险。并且，为了防止这一点，一直以来都存在基板端面为粗面更合适的观点。

而且，即使在使用不依靠人手操作这些大型基板而自动地处理的装置的情况下，也存在在装置内进行基板的光学检测的情况。即，还指出如下的状况：在对基板的任一端面照射光并利用传感器接收反射光或透射光来检测基板的位置的情况下，相比于基板的端面为镜面，基板的端面为粗面的检测性能更高。