[发明专利]光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法

权利要求书

1.一种由透明材料构成的光掩模基板，其用于形成转印用图案而成为光掩模，

所述光掩模基板的特征在于，具有：

用于形成所述转印用图案的第1主表面、位于所述第1主表面的反面侧的第2主表面、以及垂直于所述第1主表面及第2主表面的端面，

在所述第1主表面的端部附近设有向平行于所述第1主表面的面投影的投影宽度为d0的倾斜区域，

所述倾斜区域包括第1倒角面和设在所述第1主表面与所述第1倒角面之间的第1曲面，

所述第1倒角面相对于所述第1主表面的倾斜角为50度以下，所述第1倒角面具有所述投影宽度为d1的平面，

所述第1曲面的曲率半径r1满足0.3r1，

且所述第1曲面和所述第1倒角面的表面粗糙度Ra小于0.05μm，其中d0、d1、r1的单位为mm。

2.根据权利要求1所述的光掩模基板，其特征在于，

所述第1倒角面相对于所述第1主表面的倾斜角为大致45度，且所述第1曲面的曲率半径r1满足0.3r1d0。

3.根据权利要求1所述的光掩模基板，其特征在于，

设所述光掩模基板的板厚为T时，所述投影宽度d1满足0d1(1/3)×T，其中T的单位为mm。

4.根据权利要求3所述的光掩模基板，其特征在于，

所述端面的表面粗糙度Ra小于0.05μm。

5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光掩模基板，其特征在于，

所述倾斜区域的投影宽度d0和所述第1倒角面的投影宽度d1的比例为：

d0×0.3＜d1＜d0×0.9。

6.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光掩模基板，其特征在于，

所述光掩模基板是显示装置制造用的光掩模基板。

7.一种光掩模坯体，其特征在于，

在权利要求1至6中的任意一项所述的光掩模基板的所述第1主表面上形成有光学膜。

8.一种光掩模，其特征在于，

在权利要求1至6中的任意一项所述的光掩模基板的所述第1主表面上形成有转印用图案。

9.一种光掩模基板的制造方法，该光掩模基板用于形成转印用图案而成为光掩模，

所述光掩模基板的制造方法的特征在于，其包括以下工序：

准备板状的透明基板，所述透明基板由透明材料构成，并具有彼此位于相反侧的第1主表面及第2主表面两者、和垂直于所述第1主表面及第2主表面的端面；

对所述透明基板的所述第1主表面以及所述第2主表面实施打磨，得到规定的平面度；

对所述透明基板的所述端面进行研磨，得到规定的平滑度；

在所述第1主表面及所述第2主表面各自与所述端面之间，分别形成第1倒角面和第2倒角面，并且至少在所述第1主表面与所述第1倒角面之间连续地形成作为曲率半径为r1的凸曲面的第1曲面，将形成的所述第1曲面和所述第1倒角面的表面粗糙度Ra设为小于0.05μm；以及

对所述两个主表面中的至少第1主表面实施精密研磨，使得表面粗糙度Ra小于0.5nm，

所述第1倒角面相对于所述第1主表面的倾斜角为大致45度，且所述曲率半径r1满足0.3r1，其中r1的单位为mm。

10.根据权利要求9所述的光掩模基板的制造方法，其特征在于，

所述端面研磨时，将所述端面的表面粗糙度Ra设为小于0.05μm。

11.一种光掩模的制造方法，其特征在于，包括以下工序：

准备权利要求7所述的光掩模坯体；

通过在所述光掩模坯体上形成规定的抗蚀剂图案并实施蚀刻，来形成转印用图案；以及

对形成有转印用图案的所述光掩模基板实施使用了接触夹具的清洗。

12.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包括以下工序：

准备权利要求8所述的光掩模；以及

使用曝光装置，将形成于所述光掩模的转印用图案转印在被转印体上。