[发明专利]多阈值电压晶体管及其形成方法

摘要

一种多阈值电压晶体管及其形成方法，其中方法包括：提供基底，基底上具有层间介质层和贯穿层间介质层的三个开口，三个开口用于形成第一类型的晶体管；在第一开口、第二开口和第三开口的侧壁和底部形成第二类型的第一功函数层、位于第一功函数层上第一类型的第二功函数层；去除第一开口中的第二功函数层后，对第一开口中的第一功函数层进行改性处理，形成改性功函数层，改性功函数层的有效功函数值大于第一功函数层的有效功函数值；之后去除第二开口中的第二功函数层；之后在三个开口的侧壁和底部形成第一类型的第三功函数层。所述方法增大了多阈值电压晶体管阈值电压调节范围，且提高了多阈值电压晶体管电学性能的稳定性。

主权项

1.一种多阈值电压晶体管的形成方法，其特征在于，包括：提供基底，所述基底上具有层间介质层和贯穿层间介质层的第一开口、第二开口和第三开口，第一开口、第二开口、第三开口用于形成第一类型的晶体管；在第一开口、第二开口和第三开口的侧壁和底部形成第二类型的第一功函数层、位于第一功函数层上第一类型的第二功函数层；去除第一开口中的第二功函数层后，对第一开口中的第一功函数层进行改性处理，使第一开口中的第一功函数层形成改性功函数层，所述改性功函数层的有效功函数值大于第一功函数层的有效功函数值；进行所述改性处理后，去除第二开口中的第二功函数层；去除第二开口中的第二功函数层后，在第一开口、第二开口和第三开口的侧壁和底部形成第一类型的第三功函数层。