[发明专利]一种显示基板、其制作方法、显示面板及显示装置

摘要

本发明实施例公开了一种显示基板、其制作方法、显示面板及显示装置。该方案中，由于制作显示基板的过程中，光刻胶薄膜中的完全去除区域距离像素电极的图形与漏极的图形的交叠区域有一定距离，这样，可以限制刻蚀范围无法到达像素电极的图形与漏极的图形的交叠区域对应的绝缘层薄膜，起到了阻挡作用，保护了该区域的绝缘层薄膜不被刻蚀，避免了像素电极的图形与漏极的图形的交叠区域对应的绝缘层薄膜出现孔洞，降低了底切不良的风险，提高了产品良率。

主权项

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：在衬底基板上依次形成层叠的像素电极的图形、绝缘层薄膜、漏极的图形、钝化层薄膜、以及光刻胶薄膜；其中，所述像素电极的图形包括与所述漏极的图形交叠的区域和无交叠的区域；利用半色调掩膜版对所述光刻胶薄膜进行曝光显影，在所述光刻胶薄膜中形成光刻胶完全去除区域、光刻胶部分保留区域以及光刻胶完全保留区域；所述光刻胶完全去除区域位于所述光刻胶薄膜中与所述无交叠的区域对应的区域内，并且所述光刻胶完全去除区域在所述衬底基板的正投影，与所述交叠区域在所述衬底基板的正投影的最小距离大于第一预设距离；所述光刻胶部分保留区域覆盖所述交叠区域及从该区域至所述光刻胶完全去除区域之间的区域；利用刻蚀工艺和所述光刻胶薄膜，在所述钝化层薄膜和所述绝缘层薄膜中刻蚀形成所述像素电极的图形和所述漏极的图形的搭接过孔；其中，所述第一预设距离不小于刻蚀所述钝化层薄膜时的横向刻蚀量。