[发明专利]结构上的光致抗蚀剂图案制作工艺有效
| 申请号： | 201610666664.0 | 申请日： | 2016-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN107479338B | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 史佩珊;郭琬琳;张宜翔;林嘉祺;赖俊丞 | 申请（专利权）人： | 力晶积成电子制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种结构上的光致抗蚀剂图案制作工艺，包括：提供基底，此基底包括第一区以及多个第二区，其中第二区位于第一区的相对两侧，且多个突起图案形成于基底上；在第一区上形成光致抗蚀剂图案，其中当突起图案至少位于第一区上且与待形成的光致抗蚀剂图案的位置重叠时，在形成光致抗蚀剂图案之前，移除突起图案。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 光致抗蚀剂 图案 制作 工艺 | ||
【主权项】：
一种结构上的光致抗蚀剂图案制作工艺，包括：提供基底，所述基底包括第一区以及多个第二区，其中所述第二区位于所述第一区的相对两侧，且多个突起图案形成于所述基底上；以及在所述第一区上形成光致抗蚀剂图案，其中当所述突起图案至少位于所述第一区上且与待形成的所述光致抗蚀剂图案的位置重叠时，在形成所述光致抗蚀剂图案之前，移除所述突起图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力晶积成电子制造股份有限公司，未经力晶积成电子制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610666664.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种可进行双面对位的半自动曝光机
- 下一篇：显影装置及其显影方法
