[发明专利]光刻胶图形成形方法及装置、膜层、基板及制作方法在审
| 申请号： | 201610579302.8 | 申请日： | 2016-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN105974740A | 公开（公告）日： | 2016-09-28 |
| 发明（设计）人： | 李贺飞;宫奎;王铖铖;董必良;李纪龙 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F1/80 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶图形的成形方法、膜层制作方法、基板及其制作方法、显示装置、光刻胶喷涂装置，本发明通过喷涂的方式在薄膜上喷涂光刻胶形成预定形状的图形，可以省去曝光、显影的步骤，简便快捷，同时可以不用涂覆整面的光刻胶，并且避免使用显影液等化学试剂，不会造成光刻胶以及显影剂的浪费，节约了资源，降低了成本。另外本发明不必根据光刻胶的图像更换不同的掩膜版，可以进一步地降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 图形 成形 方法 装置 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光刻胶图形的成形方法，其特征在于，所述方法包括在薄膜上喷涂光刻胶形成预定形状的图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610579302.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种稳定式蛭石板的制板机
- 下一篇：一种竹编框成型设备
