[发明专利]曝光装置、曝光方法及器件制造方法

摘要

本发明涉及曝光装置、曝光方法及器件制造方法。曝光装置，获取关于在基板台沿第一方向的移动量与由投影光学系统投影于基板侧参考标记上的掩模侧参考标记的图像沿垂直于投影光学系统的光轴的第二方向相对于基板侧参考标记的位置偏移量之间的关系的信息。控制器在基于该信息共同沿第一方向和第二方向驱动基板台的同时通过促使测量器件测量光量来基于测量结果确定焦点位置。

主权项

1.一种曝光装置，所述曝光装置包含：被配置用于将由掩模台保持的掩模的图案投影于基板上的投影光学系统，能够沿平行于投影光学系统的光轴的第一方向与垂直于第一方向的第二方向移动的且被配置用于保持基板的基板台，被配置用于测量透射穿过掩模侧参考标记、投影光学系统和布置于基板台上的基板侧参考标记的光量的测量器件，以及被配置用于基于测量器件的测量结果确定投影光学系统的焦点位置的控制器，所述曝光装置包含：获取单元，所述获取单元被配置用于获取关于在基板台沿第一方向的移动量与由投影光学系统投影于基板侧参考标记上的掩模侧参考标记的图像在第二方向上相对于基板侧参考标记的位置偏移量之间的关系的信息，所述位置偏移量在基板台沿着第一方向被驱动时出现，其中，控制器在连同沿第一方向驱动基板台一起通过使用所述信息也沿第二方向驱动基板台达与基板台沿第一方向的移动量对应的沿第二方向的位置偏移量的同时，通过促使测量器件测量所述光量来基于测量结果确定焦点位置。