[发明专利]通过浸入式光刻机进行光刻的方法

摘要

本发明公开了一种通过浸入式光刻机进行光刻的方法，包括：光刻所用的光垂直向下入射，射入液体槽，首先到达凸透镜，经由凸透镜之后的光刻掩膜，之后到达准直装置，进行准直过程；光路在被准直之后，到达第三折射镜，被第三折射镜折射，直至其到达凹面折射镜；光路被凹面折射镜折射之后，到达凹面折射镜的焦点之处的凸面折射镜，又被折射回凹面折射镜；光路第二次被凹面折射镜折射后，到达第四折射镜，被第四折射镜折射之后，沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆；步骤5、运行第一移动装置和第二移动装置，依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。本发明所述的装置，将光路系统整个浸入折射率为1.4液体中，可以增加光刻精度。

主权项

一种通过浸入式光刻机进行光刻的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、光刻所用的光垂直向下入射，射入液体槽(10)，首先到达凸透镜(1)，经由凸透镜(1)之后的光刻掩膜(2)，之后到达准直装置(3)，进行准直过程；步骤2、光路在被准直之后，到达第三折射镜(4)，被第三折射镜(4)折射，沿水平方向发射，直至其到达凹面折射镜(6)；步骤3、光路被凹面折射镜(6)折射之后，到达凹面折射镜(6)的焦点之处的凸面折射镜(5)，又被折射回凹面折射镜(6)；步骤4、光路第二次被凹面折射镜(6)折射后，到达第四折射镜(7)，被第四折射镜(7)折射之后，沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆；步骤5、运行第一移动装置(8)和第二移动装置(9)，固定在第二移动装置(9)之上的第三折射镜(4)和固定在第一移动装置(8)之上的第四折射镜(7)的都随之移动，精确调整光路位置，则光路的出射位置随之移动，依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。