[发明专利]一种快速的真空磁控溅射镀膜设备及其加工方法有效
申请号: | 201610415481.1 | 申请日: | 2016-06-14 |
公开(公告)号: | CN105970174B | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 苏贵方 | 申请(专利权)人: | 肇庆市大力真空设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 梁睦宇 |
地址: | 526060 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种快速的真空磁控溅射镀膜设备,包括上件架、前清洗机、覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架,所述上件架和前清洗机连接,所述覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架依次连接;还包括两套真空镀膜机构、第一平移拐弯架和第二平移拐弯架,两套所述真空镀膜机构平行设置,且两套所述真空镀膜机构的一端均通过第一平移拐弯架与前清洗机连接,两套所述真空镀膜机构的另一端均通过第二平移拐弯架与覆膜段连接。本发明公开了一种快速的真空磁控溅射镀膜设备的加工方法。本发明在一段时间内可同时对两个工件快速镀膜处理,这提高了生产效率,还提高了设备的紧凑性以减少占用厂房的使用空间,降低了生产成本,提高镀膜反射率。 | ||
搜索关键词: | 一种 快速 真空 磁控溅射 镀膜 设备 及其 加工 方法 | ||
【主权项】:
1.一种快速的真空磁控溅射镀膜设备,包括上件架、前清洗机、覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架,所述上件架和前清洗机连接,所述覆膜段、烘烤箱、风干段、后清洗机和下件架依次连接;其特征在于:还包括两套真空镀膜机构、第一平移拐弯架和第二平移拐弯架,两套所述真空镀膜机构平行设置,且两套所述真空镀膜机构的一端均通过第一平移拐弯架与前清洗机连接,两套所述真空镀膜机构的另一端均通过第二平移拐弯架与覆膜段连接;两套真空镀膜机构分别为第一真空镀膜机构和第二真空镀膜机构;所述第一真空镀膜机构包括依次连接的第一进件过渡架、第一进件抽气真空室、第一镀膜真空室、第一出件抽气真空室和第一出件过渡架,所述第一进件过渡架通过第一平移拐弯架与前清洗机连接,所述第一出件过渡架通过第二平移拐弯架与覆膜段连接;所述第二真空镀膜机构包括依次连接的第二进件过渡架、第二进件抽气真空室、第二镀膜真空室、第二出件抽气真空室和第二出件过渡架,所述第二进件过渡架通过第一平移拐弯架与前清洗机连接,所述第二出件过渡架通过第二平移拐弯架与覆膜段连接;所述第一平移拐弯架包括第一纵向输送组件、第一横向输送组件、第一连接架、第一气缸、第二气缸、第二横向输送组件、第二纵向输送组件、第一底架和第二底架,所述第一纵向输送组件、第一横向输送组件和第一气缸均安装于第一底架,且所述第一气缸的伸缩杆与第一横向输送组件连接;当玻璃工件需要横向输送时,所述第一气缸的伸缩杆伸出顶起第一横向输送组件,令第一横向输送组件的输送面高于第一纵向输送组件的输送面;所述第二纵向输送组件、第二横向输送组件和第二气缸均安装于第二底架,且所述第二气缸的伸缩杆与第二横向输送组件连接;当玻璃工件需要横向输送时,所述第二气缸的伸缩杆伸出顶起第二横向输送组件,令第二横向输送组件的输送面高于第二纵向输送组件的输送面;所述第一横向输送组件通过第一连接架与第二横向输送组件连接;所述第一真空镀膜机构通过第一纵向输送组件与前清洗机连接;所述第二真空镀膜机构、第二横向输送组件、第一连接架和第一横向输送组件依次连接;所述第二平移拐弯架包括第三纵向输送组件、第三横向输送组件、第二连接架、第三气缸、第四气缸、第四横向输送组件、第四纵向输送组件、第三底架和第四底架,所述第三纵向输送组件、第三横向输送组件和第三气缸均安装于第三底架,且所述第三气缸的伸缩杆与第三横向输送组件连接;当玻璃工件需要横向输送时,所述第三气缸的伸缩杆伸出顶起第三横向输送组件,令第三横向输送组件的输送面高于第三纵向输送组件的输送面;所述第四纵向输送组件、第四横向输送组件和第四气缸均安装于第四底架,且所述第四气缸的伸缩杆与第四横向输送组件连接;当玻璃工件需要横向输送时,所述第四气缸的伸缩杆伸出顶起第四横向输送组件,令第四横向输送组件的输送面高于第四纵向输送组件的输送面;所述第三横向输送组件通过第二连接架与第四横向输送组件连接;所述第一真空镀膜机构通过第四纵向输送组件与覆膜段连接;所述第二真空镀膜机构、第三横向输送组件、第二连接架和第四横向输送组件依次连接。
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