[发明专利]沉积装置在审
申请号: | 201610076324.2 | 申请日: | 2016-02-03 |
公开(公告)号: | CN106399931A | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 尹振硕;金宣赫;梁皓植;金陶煐;鲁硕原;朴国喆 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司;圆益IPS股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人: | 王达佐,刘铮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供沉积装置,所述沉积装置包括腔室、布置在所述腔室内的坩埚、以及布置在所述坩埚的上部的至少一个喷嘴,其中所述喷嘴中的每个包括向上侧方向延伸的喷嘴主体、以及在所述喷嘴主体的内部沿所述喷嘴主体的长度方向形成的多条喷嘴通路。 | ||
搜索关键词: | 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种沉积装置,包括:腔室;布置在所述腔室内的坩埚;以及布置在所述坩埚的上部的至少一个喷嘴,其中,所述喷嘴中的每个包括向上侧方向延伸的喷嘴主体以及在所述喷嘴主体的内部沿所述喷嘴主体的长度方向形成的多条喷嘴通路。
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