[发明专利]磁盘用基板的制造方法和磨削用磨石有效

专利信息
申请号: 201580063043.7 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN107004431B 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 小泽广昭;高桥武良 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G11B5/84 分类号: G11B5/84;B24B9/00;B24D5/00;B24D5/14
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;褚瑶杨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种磁盘用基板的制造方法,该方法能够高品质地抛光圆板状基板的端面,能够进行稳定的磨削加工。本发明中,使磨削液与圆板状基板的端面部分接触,使磨石与其外周侧端面接触并相对移动,对基板端面进行磨削加工。上述磨石形成为圆筒状,并且在其内周侧具有两个以上并列的槽形状,该两个以上的槽形状包括粗磨削加工用的槽和精密磨削加工用的槽。上述磨石具有抑制利用粗磨削加工用的槽进行磨削加工时产生的磨削屑移动至精密磨削加工用的槽中的单元。并且,使基板的外周侧端面依次与上述磨石的粗磨削加工用的槽和精密磨削加工用的槽接触,对基板的外周侧端面进行磨削加工。
搜索关键词: 磁盘 用基板 制造 方法 磨削 磨石
【主权项】:
1.一种磁盘用基板的制造方法,该制造方法具有下述处理:一边使磨削液与圆板状的基板的端面部分接触,一边使磨石与所述基板的外周侧端面接触并相对移动,由此对所述基板的端面进行磨削加工,该制造方法的特征在于,所述磨石形成为圆筒状,并且在其内周侧具有两个以上的槽形状,所述两个以上的槽形状包括粗磨削加工用的槽和精密磨削加工用的槽,在所述粗磨削加工用的槽与所述精密磨削加工用的槽之间具有壁,通过使所述基板的外周侧端面依次与所述粗磨削加工用的槽和所述精密磨削加工用的槽接触,从而对所述基板的外周侧端面进行磨削加工。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社,未经HOYA株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580063043.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法-201480053023.7
  • 俵义浩 - HOYA株式会社
  • 2014-09-29 - 2019-11-05 - G11B5/84
  • 本发明提供一种与目前相比能够进一步降低玻璃基板主表面的表面粗糙度的磁盘用等的玻璃基板的制造方法。本发明中,例如使用含有由苯乙烯系树脂、丙烯酸系树脂或氨基甲酸酯系树脂构成的有机系颗粒作为研磨磨粒的研磨液,对用于磁盘的玻璃基板的主表面进行镜面研磨(最终抛光研磨)后,使用有机系清洗剂对玻璃基板进行清洗,由此与目前相比能够进一步降低基板主表面的表面粗糙度。
  • 圆环状的玻璃坯板及制造方法、圆环状的玻璃基板的制造方法和磁盘用玻璃基板的制造方法-201680067880.1
  • 东修平 - HOYA株式会社
  • 2016-12-28 - 2019-11-01 - G11B5/84
  • 在由板状的玻璃坯板形成圆环状的玻璃坯板的处理中,对于板状的玻璃坯板的主表面,使第一圆形刀片沿着主表面以第一旋转半径旋转而形成外侧切口,使第二圆形刀片沿着主表面以短于第一旋转半径的第二旋转半径旋转而形成内侧切口。在第一圆形刀片的刀口上,在圆周方向隔开第一间隔设有两个以上的第一缺口,在第二圆形刀片的刀口上,在圆周方向隔开第二间隔设有两个以上的第二缺口。第一间隔小于第二间隔。圆环状的玻璃坯板的内周端面与外周端面的同心度为15μm以下。另外,圆环状的玻璃坯板的第一主表面的外周形状的正圆度与上述第一主表面的相反侧的第二主表面的外周形状的正圆度之差为100μm以下。
  • 一种高集成的单芯片固态硬盘-201822039201.9
  • 金瑞 - 上海威固信息技术股份有限公司
  • 2018-12-06 - 2019-09-17 - G11B5/84
  • 本实用新型提供一种高集成的单芯片固态硬盘,采用系统级封装技术(SiP)基于BGA封装形式,内部采用晶圆级芯片,通过封装基板和WireBonding工艺实现信号互联。横向短边、纵向长边放置,引脚排布为17行12列;横向长边、纵向短边放置,引脚排布为12行17列;引脚间距为1.0mm,外形为长方形,长边为18.0mm,短边为14.0mm,共104个引脚。本实用新型实现了单芯片固态硬盘的高度集成、小型化的目的,提升了产品的可靠性,降低了产品功耗,同时仍可实现用户使用的便利性。
  • 磁盘用基板的制造方法和磨削用磨石-201580063043.7
  • 小泽广昭;高桥武良 - HOYA株式会社
  • 2015-12-29 - 2019-09-13 - G11B5/84
  • 本发明提供一种磁盘用基板的制造方法,该方法能够高品质地抛光圆板状基板的端面,能够进行稳定的磨削加工。本发明中,使磨削液与圆板状基板的端面部分接触,使磨石与其外周侧端面接触并相对移动,对基板端面进行磨削加工。上述磨石形成为圆筒状,并且在其内周侧具有两个以上并列的槽形状,该两个以上的槽形状包括粗磨削加工用的槽和精密磨削加工用的槽。上述磨石具有抑制利用粗磨削加工用的槽进行磨削加工时产生的磨削屑移动至精密磨削加工用的槽中的单元。并且,使基板的外周侧端面依次与上述磨石的粗磨削加工用的槽和精密磨削加工用的槽接触,对基板的外周侧端面进行磨削加工。
  • 磁盘用基板的制造方法及在磁盘用基板的制造中使用的研磨垫-201810357734.3
  • 久原巧己;长大介;山城祐治 - HOYA株式会社
  • 2014-02-07 - 2019-08-23 - G11B5/84
  • 为了降低玻璃基板的主表面的波长为50~200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq,磁盘用基板的制造方法包括研磨处理,其中,利用一对研磨垫将基板夹持,向该研磨垫与基板之间供给包含研磨磨粒的浆料,使研磨垫与基板进行相对滑动,从而对基板的两个主表面进行研磨。上述研磨垫具有发泡树脂层,该发泡树脂层在表面具有2个以上的开口。由上述研磨垫的表面的拍摄图像得到上述研磨垫的表面的立体形状的信息,由上述立体形状的信息求出上述研磨垫的表面的算术平均粗糙度Ra时,上述Ra为0.5μm以下。
  • 磁盘用基板的制造方法-201580050188.3
  • 岩间健太;竹内亮太郎 - HOYA株式会社
  • 2015-10-14 - 2019-07-02 - G11B5/84
  • 提高磁盘用基板的研磨处理后的成品率。使作为对基板的主表面进行研磨的研磨处理中所用的研磨液的原料的浆料通过过滤器,该过滤器由疏水性高分子材料构成,开口直径为100nm以下。使用通过过滤器将浆料中包含的粒径大于磨粒的平均粒径的颗粒除去后的研磨液来进行研磨处理。
  • 磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法-201580005892.7
  • 德光秀造;原好太 - HOYA株式会社
  • 2015-02-02 - 2019-07-02 - G11B5/84
  • 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法,该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留,能够充分降低基板表面缺陷。本发明中,用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板,将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面,从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1‑NH‑CO‑R2式中,R1表示烷基或氢原子,R2表示烷基或‑NH‑R3,R3表示烷基。
  • 低渗透性电馈通-201610833211.2
  • T.R.阿尔布雷克特;D.阿明-沙希德;V.阿亚诺尔-威蒂凯特;平野敏树 - HGST荷兰公司
  • 2016-09-19 - 2019-06-28 - G11B5/84
  • 一种低渗透性电馈通,包含层压结构,所述层压结构具有夹在相邻的绝缘体层之间的导体层,所述绝缘体层被夹在相邻的扩散控制层之间,在这种情况下,层压结构提供相对窄且长、高深宽比的扩散通道,以抑制气体从密封的装置内泄漏到外部环境。电馈通可以包含下部电连接垫和上部电连接垫,两者被设置在馈通的不同区域内,但仍通过设置在密封区域中的第一通孔、导体层,以及设置在外部环境区域中的第二通孔电连接。
  • 磁盘用基板的制造方法-201580048163.X
  • 俵义浩 - HOYA株式会社
  • 2015-09-17 - 2019-06-21 - G11B5/84
  • 磁盘用基板的制造方法包括下述研磨处理,即,用一对研磨垫夹持圆盘状的基板,向研磨垫与基板之间供给包含研磨磨粒的浆料,使研磨垫与基板相对滑动,由此对基板的主表面进行研磨。浆料中包含的研磨磨粒和粒径大于研磨磨粒的平均粒径的板状物质在表面电荷的量方面存在差异,在进行研磨处理前,进行下述吸附处理,即,将至少被板状物质吸附、且具有符号与板状物质的表面电荷不同的表面电荷的固体的吸附材料混合至浆料中,由此使吸附材料吸附于浆料中的板状物质。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法-201480047898.6
  • 德光秀造;长大介;田本宏一;饭泉京介 - HOYA株式会社
  • 2014-08-31 - 2019-06-04 - G11B5/84
  • 本发明提供一种在清洗处理后可得到高平滑表面的磁盘用玻璃基板的制造方法。在本发明中,在玻璃基板的镜面研磨后,在使碱性的清洗液与玻璃基板的表面接触而进行清洗的清洗处理中,清洗液含有下述通式I的有机碱,在抑制清洗液中所含有的钠离子和钾离子的含量的同时进行清洗处理。通式I:[(R)4N]+OH(其中,R表示烷基,与N原子键合的4个烷基之中的至少一个烷基具有一个以上的羟基(OH基))。
  • 磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法-201580049946.X
  • 山城祐治;久原巧己 - HOYA株式会社
  • 2015-10-14 - 2019-06-04 - G11B5/84
  • 一种能够降低波长为50~200μm的微小起伏的磁盘用基板的制造方法,该制造方法包括下述研磨处理,即,用一对研磨垫夹持基板,向上述研磨垫与上述基板之间供给包含研磨磨粒的浆料,使上述研磨垫与上述基板相对滑动,由此对上述基板的两主表面进行研磨。上述研磨垫的研磨面由完成了开口处理的发泡树脂材料构成,该开口处理在上述基板的上述研磨处理前实施,其为将发泡树脂材料的至少表面膜削去而形成开口。使用上述开口处理前的上述发泡树脂材料的上述表面膜的表面粗糙度中的算术平均粗糙度Ra为0.65μm以下的发泡树脂材料作为开口处理前的研磨垫的原材料。
  • HDD用玻璃基板及其制造方法以及信息记录介质的制造方法-201380060277.7
  • 岛津典子 - HOYA株式会社
  • 2013-12-17 - 2019-05-10 - G11B5/84
  • 本发明的HDD用玻璃基板的制造方法是用于制造记录密度为630Gb/平方英寸以上的HDD用玻璃基板的制造方法,包括:精密研磨工序,使用含有胶体二氧化硅且pH为4以下的研磨液将玻璃基板研磨到其表面粗糙度Ra成为以下为止;超声波清洗工序,利用高频波清洗;浸渍工序,浸渍到包含分散剂且pH为6.5至8.5的溶液中5分钟以上;以及擦洗工序,进行擦洗。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法-201480061961.1
  • 酒井秀雄 - HOYA株式会社
  • 2014-11-17 - 2019-03-19 - G11B5/84
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法包括如下的研磨处理:利用研磨垫按压玻璃基板的两侧的主表面,对玻璃基板与所述研磨垫之间供给含有硅溶胶作为研磨磨粒的研磨浆料,并且使所述主表面和所述研磨垫相对移动,由此对所述主表面进行研磨。在对所述主表面进行研磨之前,将作为所述研磨处理中使用的所述研磨浆料的原料的原始研磨浆料调整为酸性状态,进而,对通过调整为所述酸性状态而生成的所述原始研磨浆料中的二氧化硅的析出物进行过滤处理并去除,由此制作所述研磨浆料。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及研磨垫-201480017827.1
  • 俵义浩 - HOYA株式会社
  • 2014-03-30 - 2019-03-12 - G11B5/84
  • 本发明提供一种能够降低形状波长为50μm~150μm的范围的微小波纹的磁盘用玻璃基板的制造方法。本发明中将下述研磨垫用于研磨处理,对于该研磨垫而言,从研磨垫的表面以2.5mN的负荷压入直径为50μm的圆柱状压头的圆形部分时,在研磨垫表面以50μm间隔连续计测12点的研磨垫的下沉量,由所取得的下沉量中除最大值和最小值外的10点的下沉量的数据得到标准偏差,该标准偏差为0.15μm以下。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘用玻璃基板-201610634003.X
  • 江田伸二;矶野英树 - HOYA株式会社
  • 2010-12-24 - 2019-03-08 - G11B5/84
  • 本发明提供磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘用玻璃基板,提供能够高效地制造具有良好表面凸凹精度及耐冲击性的磁盘用玻璃基板的方法,该方法具有:加压成形工序,制作具有主表面的粗糙度为0.01μm以下、且作为磁盘用玻璃基板的目标平坦度的平坦度的板状玻璃材料;化学强化工序,制造至少在板状玻璃材料的主表面形成压缩应力层的玻璃基板;及主表面研磨工序,在玻璃基板的主表面加压研磨垫,一边在玻璃基板与研磨垫之间供给包含研磨材料的研磨液,一边使玻璃基板和研磨垫相对移动,以研磨玻璃基板的主表面。而且,将在加压成形工序中制作的板状玻璃材料的厚度设定为相对于作为磁盘用玻璃基板的目标厚度,厚主表面研磨工序产生的研磨量厚度。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磨削工具-201480053025.6
  • 深田顺平;田村健 - HOYA株式会社
  • 2014-09-29 - 2019-02-19 - G11B5/84
  • 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法,该制造方法在利用固定磨粒的磨削处理中能够进行不发生磨削不均的稳定的磨削加工,能够制造高品质的玻璃基板。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中,利用磨削工具进行玻璃基板主表面的磨削,该磨削工具包含2个以上的磨削磨粒通过玻璃结合材料结合而成的集结磨粒和将2个以上的该集结磨粒结合的树脂,在该磨削工具的磨削面中磨削磨粒从周围树脂突出的突出量高于使用触针式表面粗糙度计对所述磨削面所测定的表面形状的最大高度。
  • 测定方法、磁盘装置的制造方法及磁盘装置-201510547541.0
  • 松永俊孝 - 株式会社东芝
  • 2015-08-31 - 2019-02-01 - G11B5/84
  • 本发明提供测定方法,磁盘装置的制造方法以及磁盘装置。该测定方法用于盘装置,该盘装置具备盘和通过向加热器供给电力而向盘突出的头,该测定方法包括:按将盘划分所得的多个区的每个区,由包括事先测定的多个测定值的测定值分布取得基准值,测定中测定对应于盘与头接触时向加热器供给的电力的值,按每个区,取得由测定值分布和取得的基准值算出的数据组,参照每个区的数据组而选择多个区中的具有该数据组的值比其他区小的值的区来作为首先执行所述测定的第一区,基于每个区的数据组来选择第一区的下一个执行所述测定的区。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘用玻璃基板-201610346532.X
  • 江田伸二;矶野英树 - HOYA株式会社
  • 2010-12-24 - 2019-01-22 - G11B5/84
  • 本发明涉及磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘用玻璃基板,提供一种高效地制造可抑制了主表面的表面凸凹的磁盘用玻璃基板的方法及磁盘用玻璃基板。在制造具有一对主表面的磁盘用玻璃基板时,通过对熔融玻璃或软化玻璃进行加压成形而成形如下板状玻璃材料,该玻璃材料具有,其主表面具有磁盘用玻璃基板的目标平坦度、且所述主表面的粗糙度为0.01μm以上10μm以下的表面凹凸、及雾度为20%以上的光学特性。使用固定磨粒研削具有所述表面凸凹和所述表面特性的所述板状玻璃材料。之后,对具有使用所述固定磨粒进行研削的所述主表面的表面凸凹的板状玻璃材料,使用游离磨粒进行研磨。
  • 磁盘用基板的制造方法-201580010429.1
  • 东修平;高桥武良 - HOYA株式会社
  • 2015-03-31 - 2019-01-18 - G11B5/84
  • 在进行磁盘用基板的端面研磨处理之前,预先取得研磨磨粒的粒径相对于磁性颗粒的粒径的粒径比、与利用具有该粒径比的磁性颗粒和研磨磨粒的磁功能性流体对基板的端面进行研磨时基板的倒角面相对于基板的侧壁面的研磨速率之比的关系,根据作为上述端面研磨处理的对象的基板的侧壁面与倒角面的目标研磨速率之比,设定上述粒径比的值,制作具有成为所设定的粒径比的值的磁性颗粒和研磨磨粒的磁功能性流体。在上述端面研磨处理中,使作为上述端面研磨处理的对象的基板的端面在与通过磁产生单元形成的上述磁功能性流体的块接触的状态下相对移动,从而对基板的端面进行研磨。
  • 磁记录介质的制造方法及采用该制造方法制造的磁记录介质-201680004846.X
  • 菊池洋人;岛津武仁 - 富士电机株式会社
  • 2016-06-15 - 2019-01-01 - G11B5/84
  • 本发明是可批量生产地制造磁记录介质的成分的组成在膜厚方向上单调地变化的磁记录介质的方法。该方法是如下的磁记录介质的制造方法,该磁记录介质至少包含基板和磁记录层,上述磁记录层包含Fe、Pt和Rh,上述磁记录层的Rh的组成在磁记录层的膜厚方向上变化。磁记录介质的制造法包含:在FePt或者FePtRh的第1磁性层上层叠FePtRh的第2磁性层,接下来,在将第1磁性层和第2磁性层成膜后将基板加热,或者,在预先加热到规定温度的基板上将第1磁性层和第2磁性层成膜。在磁记录介质的制造方法中,在FePtRh的第1磁性层上层叠FePtRh的第2磁性层的情况下,使第2磁性层的Rh的浓度比第1磁性层的Rh的浓度高。
  • 用于制造含碳保护膜的方法-201380075803.7
  • 永田德久 - 富士电机(马来西亚)有限公司
  • 2013-11-14 - 2018-12-25 - G11B5/84
  • 本发明的目的是提供一种用于制造较小厚度的保护膜的方法,其使得有可能同时防止该保护膜劣化并保持抗腐蚀性。根据本发明的用于制造含碳保护膜的该方法包括:(a)通过等离子体CVD方法使用含有碳氢化合物气体的起始材料气体在衬底上形成碳材料膜的步骤;以及(b)通过使用从具有阳极和阴极的等离子体CVD设备中的含氮起始材料气体产生的等离子体来氮化该碳材料膜并形成含碳保护膜的步骤。在步骤(b)中,阳极电位等于或大于20V;离子加速电位差在20V到120V的范围内;以及衬底电流密度在4×106A/mm2到8×10‑6A/mm2的范围内。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法-201580025871.1
  • 田村健;深田顺平 - HOYA株式会社
  • 2015-06-30 - 2018-11-02 - G11B5/84
  • 在玻璃基板的研磨处理中,抑制玻璃基板的主表面的外周端部发生隆起。在研磨玻璃基板的主表面的研磨处理中,设向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给的研磨液内包含的游离磨粒的粒径(μm)为x(x>0),设每粒径x的磨粒的相对频度(%)为y,设y为x的函数f(x)时,在0.5μm≤x≤1.0μm的范围内存在y的极大值y1,y1是y的最大值,设与y1对应的粒径为x1时,xy坐标平面中的曲线y=f(x)在x>x1的区域内具有3个拐点P2(x2,y2)、P3(x3,y3)、P4(x4,y4)(x1234、y2=f(x2)、y3=f(x3)、y4=f(x4)),x3≤x≤x4的范围内的y的最大值ylm与y1之比ylm/y1是0.5≤ylm/y1<1。
  • 磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法-201580055296.X
  • S·卡姆拉尔 - HOYA株式会社;HOYA玻璃磁盘(泰国)公司
  • 2015-11-12 - 2018-10-02 - G11B5/84
  • 磁盘用基板的制造方法包括下述研磨处理,即,用一对绒面革型的研磨垫夹持基板,向上述研磨垫与上述基板之间供给包含研磨磨粒的浆料,使上述研磨垫与上述基板相对滑动,由此对上述基板的两主表面进行研磨。在上述基板的上述研磨处理前,对上述研磨垫实施下述修整处理,即,一边向设置于上述定盘的上述研磨垫的表面供给冷却剂,一边使修整器与上述研磨垫相对滑动,从而将上述研磨垫的表面除去。在上述修整处理中,对上述冷却剂的温度或单位时间的供给量进行控制,以使上述冷却剂从上述研磨垫夺去的热量在上述修整处理的终止时刻大于开始时刻。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磁盘用玻璃基板的端面研磨装置-201480024064.3
  • 东修平;舆水修 - HOYA株式会社
  • 2014-04-30 - 2018-09-14 - G11B5/84
  • 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法,该制造方法能够提高玻璃基板的端面的形状精度,能够高品质地抛光。本发明中,使用由相对配置的一对磁铁构成的磁产生单元来形成在玻璃基板的厚度方向前进的直线状的磁力线,将包含磁粘性流体和研磨磨粒的磁性浆料保持于上述磁力线,从而沿着上述磁力线形成上述磁性浆料的块。另外,在使玻璃基板的水平面相对于与上述磁力线的方向正交的表面方向倾斜的状态下,使玻璃基板的端面与上述磁性浆料的块接触,从而对玻璃基板的端面的侧壁面和倒角面这两个面同时进行研磨。
  • 磁盘用玻璃基板的制造方法-201580052307.9
  • S·斯瓦特;S·潘尼 - HOYA株式会社;HOYA玻璃磁盘(泰国)公司
  • 2015-09-30 - 2018-08-17 - G11B5/84
  • 一种磁盘用玻璃基板的制造方法,其可在玻璃基板的主表面抑制清洗污渍的产生,该磁盘用玻璃基板的制造方法包括上述玻璃基板的表面的清洗处理、和在上述清洗处理后进行的上述表面的干燥处理。上述清洗处理包括将上述玻璃基板浸渍到包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第1液体中的第1液体处理,上述第1液体包含上述水溶性溶剂作为主要成分,并包含3.0重量%以上的水。或者,上述干燥处理包括:将上述玻璃基板配置于包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体的蒸气中,一边在上述玻璃基板的表面形成液滴,一边使上述玻璃基板的液滴的一部分从上述玻璃基板滴下。上述第2液体包含上述水溶性溶剂作为主要成分,并包含超过1.0重量%的上述水。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top