[发明专利]铜、钼金属层叠膜蚀刻液组合物、使用该组合物的蚀刻方法及延长该组合物的寿命的方法有效
| 申请号： | 201580056861.4 | 申请日： | 2015-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN107075693B | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 高桥秀树;廖本男;李盈壕 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;C23F1/46 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 崔佳佳;马莉华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够对包括由铜或以铜为主要成分的合金形成的层和由钼或以钼为主要成分的合金形成的层的金属层叠膜进行一次性蚀刻，且可防止钼层的底切，剖面形状的控制和根据剖面对组成浓度的调整容易的具有稳定性的蚀刻液组合物，还提供使用该组合物的蚀刻方法及延长该组合物的寿命的方法。本发明的蚀刻液组合物是用于对包括由铜或以铜为主要成分的合金形成的层和由钼或以钼为主要成分的合金形成的层的金属层叠膜进行一次性蚀刻的蚀刻液组合物，其中，含有过氧化氢、有机酸、胺化合物、唑类、过氧化氢稳定剂，但不含无机酸。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 层叠 蚀刻 组合 使用 方法 延长 寿命 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，它是用于对包括由铜或以铜为主要成分的合金形成的层和由钼或以钼为主要成分的合金形成的层的金属层叠膜进行一次性蚀刻的蚀刻液组合物，其中，含有过氧化氢、有机酸、胺化合物、唑类、过氧化氢稳定剂，但不含无机酸，各成分的掺入量为过氧化物5～20质量％、有机酸0.5～20质量％、胺化合物5～20质量％、唑类0.005～0.2质量％和过氧化氢稳定剂0.05～0.5质量％。
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