[发明专利]靶材、靶材的制造方法及平板状靶在审
| 申请号： | 201580032190.8 | 申请日： | 2015-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN106460163A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 世良佳弘;石田新太郎;矢野智泰 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B24B27/06;B28D1/22 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 实施方式的靶材是平板状的陶瓷。该靶材供溅镀的溅镀面的表面粗糙度Ra为0.5μm以上1.5μm以下，且形成于溅镀面的微裂隙的最大深度为15μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 制造 方法 平板 | ||
【主权项】：
一种靶材，其为平板状陶瓷，其中，供溅镀的溅镀面的表面粗糙度Ra为0.5μm以上1.5μm以下，且形成于所述溅镀面的裂隙的最大深度为15μm以下。
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