[实用新型]真空处理设备有效
| 申请号： | 201520295524.8 | 申请日： | 2015-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN204644463U | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 约亨·克劳瑟 | 申请（专利权）人： | 冯·阿登纳有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 刘明海;杨生平 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 真空处理设备(100),可以包括：室壳体(102)，具有在室壳体(102)上侧中的开口(111)，用于容纳室盖(104)；室盖(104)，用于盖住室壳体(102)的开口(111)；在室壳体(102)上的第一前级真空供应结构(108a)；在室盖(104)上的第二前级真空供应结构(108b)，其中第一前级真空供应结构(108a)和第二前级真空供应结构(108b)这样地设置，即它们在室盖(104)关闭时自动地真空密封地相互偶联。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种真空处理设备(100)，其包括：室壳体(102)，具有在室壳体(102)上侧中的开口(111)，用于容纳室盖(104)；室盖(104)，用于盖住室壳体(102)的开口(111)；在室壳体(102)上的第一前级真空供应结构(108a)；在室盖(104)上的第二前级真空供应结构(108b)，其中第一前级真空供应结构(108a)和第二前级真空供应结构(108b)这样地设置，即它们在室盖(104)关闭时自动地真空密封地相互偶联。
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