[实用新型]结终端延伸的终端版图结构及其终端结构有效

专利信息
申请号: 201520087935.8 申请日: 2015-02-06
公开(公告)号: CN204632762U 公开(公告)日: 2015-09-09
发明(设计)人: 褚为利;朱阳军;陆江;卢烁今;田晓丽 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;上海联星电子有限公司;江苏中科君芯科技有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L27/02
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种结终端延伸的终端版图结构,包括有源区,有源区内具有至少一个绝缘栅双极晶体管IGBT元包结构,元包结构为并联结构,有共同的发射极电极、集电极电极和栅极电极;包围有源区外围为至少一圈呈涡旋状的P型注入的窗口,每一圈注入窗口之间,从横截面看,间隔一定距离;通过注入窗口能够形成从横截面看相互独立的P型轻掺杂区,经过一定时间的高温退火后,P型轻掺杂区相互连接,能够形成从有源区到芯片的边沿区掺杂浓度逐渐降低,结深也逐渐降低的P型轻掺杂区。本实用新型还公开了三种结终端延伸的终端结构。本实用新型能够提高终端的耐压性和降低终端设计的复杂性。
搜索关键词: 终端 延伸 版图 结构 及其
【主权项】:
一种结终端延伸的终端版图结构,包括有源区(506),其特征在于,进一步包括:所述有源区(506)内具有至少一个绝缘栅双极晶体管IGBT元包结构,所述元包结构为并联结构,有共同的发射极电极、集电极电极和栅电极;包围所述有源区(506)外围为至少一圈呈涡旋状的P型注入的窗口(505),每一圈注入窗口之间,从横截面看,间隔一定距离;通过所述注入窗口能够形成从横截面看相互独立的P型轻掺杂区,经过一定时间的高温退火后,所述P型轻掺杂区相互连接,能够形成从有源区(506)到芯片的边沿区掺杂浓度逐渐降低,结深也逐渐降低的P型轻掺杂区。
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