[发明专利]光刻照明系统以及光刻设备有效
| 申请号： | 201510642571.X | 申请日： | 2015-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN106556974B | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 裴金花 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 高静;吴敏 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻照明系统，包括：照明单元，用于提供环形入射光；透光板，用于遮挡部分所述环形入射光以形成投射至掩膜的透射光，所述透射光包括多段弧形透射光和位于相邻弧形透射光之间的圆点形透射光。本发明通过使所述透光板在形成多段弧形透射光之外，还在弧形透射光的连接处形成圆点形透射光，以圆点形透射光补充弧形透射光连接处的光能不足，从而提高所述光刻照明系统产生光束光能分布的均匀性，优化光刻效果，扩大工艺窗口。而且，通过改变透光板的设计直接形成弧形透射光和圆点形透射光的方法简单易行。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 照明 系统 以及 设备 | ||
【主权项】：
1.一种光刻照明系统，用于提供投射至掩膜的光束，其特征在于，包括：照明单元，用于提供环形入射光；透光板，用于遮挡部分所述环形入射光以形成投射至掩膜的透射光，所述透射光包括多段弧形透射光和位于相邻弧形透射光之间的圆点形透射光，所述圆点形透射光的半径的相干系数在0.05到0.15范围内。
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