[发明专利]一种单源前驱体制备α-三氧化二铁薄膜的光电极的方法有效

专利信息
申请号: 201510342675.9 申请日: 2015-06-19
公开(公告)号: CN105039938B 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 杨晓刚;张艳鸽;李梦祥;王小超;赵元昊;王珂;吴其华;葛德培 申请(专利权)人: 许昌学院
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12;C25B11/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 461000 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供了一种单源前驱体制备α‑三氧化二铁薄膜的光电极的方法。以柠檬酸铁铵为原料在160‑200度或以草酸高铁铵为原料在90‑180度下水热沉积得到牢固致密的α‑三氧化二铁薄膜。本方法制备的α‑三氧化二铁薄膜可以直接沉积到F掺杂的二氧化锡(FTO)导电玻璃基片上。经过乙醇还原再氧化的过程活化的α‑三氧化二铁薄膜光电性能良好。本发明的优点:避免了使用多种反应前驱物,无需调节溶液中的其他添加剂的浓度;并且直接获得了α‑三氧化二铁薄膜,无需经过FeOOH退火转化为α‑三氧化二铁的过程,降低了制造成本。
搜索关键词: 一种 前驱 体制 氧化铁 薄膜 电极 方法
【主权项】:
1.单源前驱体制备α‑三氧化二铁薄膜的光电极的方法,其基片为FTO导电玻璃,具体步骤如下:1)将可溶配位铁盐溶于蒸馏水配成浓度为0.001‑0.05mol/L的溶液,可溶配位铁盐为柠檬酸铁铵或草酸高铁铵;制备Sn、Ti、Co或Ni掺杂的α‑三氧化二铁薄膜时,需分别添加相应可溶性SnCl4、SnCl2、K2Ti(C2O4)3、Co(NO3)2、Ni(NO3)2作为掺杂剂;2)将步骤1)中得到的溶液倒入反应釜内衬中,填充度为10‑70%;将清洗过的FTO导电玻璃基片垂直或水平放入内衬中,并且密封反应釜;3)将反应釜置于烘箱中反应6‑16小时: 以步骤1)中得到的柠檬酸铁铵为前驱体时,反应温度为160‑200度;以步骤1)中得到的草酸高铁铵为前驱体时,反应温度为90‑180度;4)取出沉积有薄膜的FTO导电玻璃基片,用蒸馏水洗涤、自然干燥,得到α‑三氧化二铁薄膜;5)将步骤4)得到的薄膜,重新置于步骤2)的内衬中,重复步骤2)、3)和4),得到厚度可调的得到α‑三氧化二铁薄膜;6)上述得到的α‑三氧化二铁薄膜置于体积1.4L管式炉中部的瓷舟中,密封后抽真空并通入0.05‑0.5mL乙醇气体,热处理温度设定为300‑500℃,时间为0.5‑4小时;7)然后变黑的α‑三氧化二铁薄膜重新置于所述管式炉中,在500℃下空气中退火处理0.5‑3小时得到活化的α‑三氧化二铁薄膜。
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