[发明专利]一种单源前驱体制备α-三氧化二铁薄膜的光电极的方法有效
申请号: | 201510342675.9 | 申请日: | 2015-06-19 |
公开(公告)号: | CN105039938B | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 杨晓刚;张艳鸽;李梦祥;王小超;赵元昊;王珂;吴其华;葛德培 | 申请(专利权)人: | 许昌学院 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;C25B11/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 461000 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种单源前驱体制备α‑三氧化二铁薄膜的光电极的方法。以柠檬酸铁铵为原料在160‑200度或以草酸高铁铵为原料在90‑180度下水热沉积得到牢固致密的α‑三氧化二铁薄膜。本方法制备的α‑三氧化二铁薄膜可以直接沉积到F掺杂的二氧化锡(FTO)导电玻璃基片上。经过乙醇还原再氧化的过程活化的α‑三氧化二铁薄膜光电性能良好。本发明的优点:避免了使用多种反应前驱物,无需调节溶液中的其他添加剂的浓度;并且直接获得了α‑三氧化二铁薄膜,无需经过FeOOH退火转化为α‑三氧化二铁的过程,降低了制造成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 前驱 体制 氧化铁 薄膜 电极 方法 | ||
【主权项】:
1.单源前驱体制备α‑三氧化二铁薄膜的光电极的方法,其基片为FTO导电玻璃,具体步骤如下:1)将可溶配位铁盐溶于蒸馏水配成浓度为0.001‑0.05mol/L的溶液,可溶配位铁盐为柠檬酸铁铵或草酸高铁铵;制备Sn、Ti、Co或Ni掺杂的α‑三氧化二铁薄膜时,需分别添加相应可溶性SnCl4、SnCl2、K2Ti(C2O4)3、Co(NO3)2、Ni(NO3)2作为掺杂剂;2)将步骤1)中得到的溶液倒入反应釜内衬中,填充度为10‑70%;将清洗过的FTO导电玻璃基片垂直或水平放入内衬中,并且密封反应釜;3)将反应釜置于烘箱中反应6‑16小时: 以步骤1)中得到的柠檬酸铁铵为前驱体时,反应温度为160‑200度;以步骤1)中得到的草酸高铁铵为前驱体时,反应温度为90‑180度;4)取出沉积有薄膜的FTO导电玻璃基片,用蒸馏水洗涤、自然干燥,得到α‑三氧化二铁薄膜;5)将步骤4)得到的薄膜,重新置于步骤2)的内衬中,重复步骤2)、3)和4),得到厚度可调的得到α‑三氧化二铁薄膜;6)上述得到的α‑三氧化二铁薄膜置于体积1.4L管式炉中部的瓷舟中,密封后抽真空并通入0.05‑0.5mL乙醇气体,热处理温度设定为300‑500℃,时间为0.5‑4小时;7)然后变黑的α‑三氧化二铁薄膜重新置于所述管式炉中,在500℃下空气中退火处理0.5‑3小时得到活化的α‑三氧化二铁薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许昌学院,未经许昌学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510342675.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:污泥处理系统
- 下一篇:电传输馈入结构及具有其的PECVD设备
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理