[发明专利]一种半导体制程缺陷的检测方法及系统有效
申请号: | 202110125167.0 | 申请日: | 2021-01-29 |
公开(公告)号: | CN112991259B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 林晧庭;许建东;徐东东;蔡俊郎 | 申请(专利权)人: | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06V10/25;G06V10/46;G06V10/764;G06V10/82;G06N3/0464;G06N3/08;H01L21/66;H01L21/67 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 朱艳 |
地址: | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体制程缺陷的检测方法,所述半导体制程缺陷的检测方法包括:建立数据库,所述数据库中包括多种半导体制程缺陷的图片,并按照半导体制程缺陷的形貌特征,将所述半导体制程缺陷进行分类;扫描晶片,并通过识别所述半导体制程缺陷的形貌特征,在晶片上获得多个预选区域,通过半导体制程缺陷识别系统,提取所述预选区域中所述半导体制程缺陷的图片特征,并识别所述半导体制程缺陷的类型;根据所述半导体制程缺陷的类型,确定扫描机器的最佳扫描参数;根据最佳扫描参数,再次扫描晶片,并识别晶片上所述半导体制程缺陷的类型及位置。通过本发明提供的一种半导体制程缺陷的检测方法,可快速识别所述半导体制程缺陷的类型和位置。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 缺陷 检测 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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