[发明专利]在MEMS器件中形成平面的牺牲材料的方法有效

专利信息
申请号: 201480048429.6 申请日: 2014-09-02
公开(公告)号: CN105555704B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 布莱恩·I·特洛伊;詹姆斯·F·波比亚;迈克·雷诺;约瑟夫·达米安·戈登·拉西;托马斯·L·麦圭尔 申请(专利权)人: 卡文迪什动力有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 代理人: 谢攀,刘继富
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明总体上涉及一种制造MEMS器件的方法。在MEMS器件中,可移动板被布置在空腔内,使得可移动板能够在所述空腔内移动。为了形成空腔,可以沉积牺牲材料然后将所述可移动板的材料沉积于其上。所述牺牲材料被移除以释放可移动板在所述空腔内移动。牺牲材料一旦被沉积,就可能不是足够平面的,这是因为所述牺牲材料的最高点与最低点之间的高度差可能是相当大的。为了确保可移动板是足够平面的,牺牲材料的平面度应当被最大化。为了使牺牲材料的表面平面度最大化,牺牲材料可以被沉积然后被传导加热以允许牺牲材料回流并且由此被平面化。
搜索关键词: mems 器件 形成 平面 牺牲 材料 方法
【主权项】:
一种形成MEMS器件的方法,包括:在衬底之上沉积牺牲层;传导加热所述衬底和所述牺牲层以使所述牺牲层回流并且使所述牺牲层平面化;在所述牺牲层之上形成可移动板;限定包围所述牺牲层和所述可移动板的空腔;和从所述空腔移除所述牺牲层。
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