[实用新型]石英晶片多层离子溅射镀膜机有效
| 申请号： | 201420654878.2 | 申请日： | 2014-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN204125522U | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 胡国春;翁斌 | 申请（专利权）人： | 东晶锐康晶体（成都）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人： | 袁英 |
| 地址： | 610041 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种石英晶片多层离子溅射镀膜机，它包括从左往右依次连接的第一腔体（1）、第二腔体（2）和第三腔体（3），所述的第一腔体（1）、第二腔体（2）和第三腔体（3）内均设置有电场发生器（4）和磁场发生器（5），所述的第一腔体（1）上方设置有铬靶（6），第二腔体（2）上方设置有铝靶（7），第三腔体（3）上方设置有金靶（8），所述的第一腔体（1）与第二腔体（2）连接处以及第二腔体（2）与第三腔体（3）的连接处均设置有一隔板（9），隔板（9）中间位置开设有通孔（10）。本实用新型的有益效果是：它具有成本低、镀膜效率高和易于制造的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 石英 晶片 多层 离子 溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
石英晶片多层离子溅射镀膜机，其特征在于：它包括从左往右依次连接的第一腔体（1）、第二腔体（2）和第三腔体（3），所述的第一腔体（1）、第二腔体（2）和第三腔体（3）内均设置有电场发生器（4）和磁场发生器（5），电场发生器（4）和磁场发生器（5）位于腔体两侧，所述的第一腔体（1）上方设置有铬靶（6），第二腔体（2）上方设置有铝靶（7），第三腔体（3）上方设置有金靶（8），所述的第一腔体（1）与第二腔体（2）连接处以及第二腔体（2）与第三腔体（3）的连接处均设置有一隔板（9），隔板（9）中间位置开设有通孔（10）。
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