[发明专利]蚀刻膏组成物及其应用无效
| 申请号： | 201410157734.0 | 申请日： | 2014-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN104119921A | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 刘骐铭;施俊安 | 申请（专利权）人： | 奇美实业股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C09K13/00;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 中国台湾台南市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及蚀刻膏组成物及其应用。一种蚀刻膏组成物，包含：含氟化合物(A)；溶剂(B)，包括芳香醇类溶剂(B-1)、水(B-2)及其他溶剂(B-3)；微粒(C)，选自于聚合物微粒(C-1)、无机化合物微粒(C-2)，或前述的组合；有机增稠剂(D)；及酸(E)，选自于有机酸(E-1)、无机酸(E-2)，或前述的组合。本发明另提供一种蚀刻方法，是将前述的蚀刻膏组成物丝网印刷于触控面板的基板的氧化硅层或氮化硅层上，然后进行蚀刻步骤及清洗步骤。该蚀刻膏组成物经时稳定性良好，适用于丝网印刷的操作。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组成 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种蚀刻膏组成物，其特征在于，其包含：含氟化合物(A)；溶剂(B)，包括芳香醇类溶剂(B‑1)、水(B‑2)及其他溶剂(B‑3)；微粒(C)，选自于聚合物微粒(C‑1)、无机化合物微粒(C‑2)，或前述的组合；有机增稠剂(D)；及酸(E)，选自于有机酸(E‑1)、无机酸(E‑2)，或前述的组合。
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- 本发明公开一种有效蚀刻NPN掺杂区域形貌以找出失效原因的组合物，用于在PN结剖面轮廓失效检验中进行结染色，该组合物包含：硝酸、氢氟酸、乙酸、水、五水硫酸铜；该组合物的摩尔比为：硝酸：氢氟酸：乙酸：水：五水硫酸铜=2.9712：0.1734：7：5.18：0.08。本发明组合物所采用的组份都是非常便宜的化学溶剂，降低成本；组合物制备方便，任何检验人员都可以简单的自行制备本发明组合物的化学配比，其样本准备远简单于采用电子检验方式中例如SSRM或SCM的电子设备，实现不需要物色和授权外包的供应商提供检验材料，便于进行PN结剖面轮廓失效检验，具有高成功率。
- 一种BOE蚀刻液的制备方法-201310754779.1
- 王海;田志扬;张晓东;潘绍忠;张学良;韩虹羽;魏俊明 - 浙江凯圣氟化学有限公司
- 2013-12-31 - 2014-04-30 - C09K13/08
- 本发明公开了一种BOE蚀刻液的制备方法。包括如下步骤：（1）将浓度为49wt％氢氟酸（HF），浓度为30wt％氨水，超纯水依次加入到反应器中，于室温下搅拌反应6-12小时，得到氢氟酸（HF）与氟化铵（NH4F）的混合物；（2）向步骤（1）所得混合物中依次加入添加剂、烷基硫酸铵盐阴离子表面活性剂，室温下搅拌混合6-18小时，混合均匀后得通明的BOE蚀刻液。本发明所述方法制备的BOE蚀刻液对二氧化硅具有较高的蚀刻选择性，且可明显降低BOE蚀刻液对硅片的接触角。此外，本发明制备方法操作简单，所得BOE蚀刻液杂质含量低。
- 一种BOE蚀刻液组合物-201310755319.0
- 王海;田志扬;潘绍忠;张晓东;张学良;傅明星;王瑞 - 浙江凯圣氟化学有限公司
- 2013-12-31 - 2014-04-30 - C09K13/08
- 本发明公开了一种BOE蚀刻液组合物。包括浓度为0.5-30wt％的氢氟酸（HF），浓度为1-40wt％的氟化铵（NH4F）和水，所述组合物还含有添加剂，所述添加剂为脂肪族有机酸（C2-C12）、脂肪族有机碱（C2-C12）、脂肪族有机醇（C2-C12）中的一种或其混合物，BOE蚀刻液组合物还进一步含有烷基硫酸铵盐阴离子表面活性剂。相对传统的湿法蚀刻组合物，本发明所述BOE蚀刻液对二氧化硅具有较高的蚀刻选择性，可高速蚀刻二氧化硅，并且BOE蚀刻液对硅片具有低接触角，可明显改善BOE蚀刻液对硅片蚀刻层的润湿和蚀刻均匀性。
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