[发明专利]一种在镁合金表面制备导电且耐腐蚀涂层的方法

摘要

一种在镁合金表面制备导电且耐腐蚀涂层的方法，涉及合金材料的表面处理。在镁合金表面制备单层金属铪涂层的方法试样经基体前处理后，放入直流磁控溅射设备的内腔沉积室内，通入氩气，预溅射金属铪靶材后使镁合金基底正对铪靶材，溅射沉积后得到表面镀有单层金属铪涂层的镁合金。在镁合金表面制备多层金属铪涂层的方法试样经基体前处理后放入沉积室，通入氩气，分别预溅射两块相同的金属铪靶材，记为铪靶材A和B，预溅射后，使镁合金基底正对铪靶材A，溅射沉积得到第一层膜层；关闭直流电源，然后将样品转至铪靶材B前，溅射沉积得第二层膜层；重复以上过程，调节铪靶材A和B的溅射时间，即得到表面镀有多层金属铪涂层的镁合金。

主权项

一种在镁合金表面制备导电且耐腐蚀的单层金属铪涂层的方法，其特征在于其具体步骤如下：将镁合金基底经前处理后，放入直流磁控溅射设备的内腔沉积室内，将内腔沉积室抽真空，再通入氩气，预溅射金属铪靶材，预溅射后，转动样品台，使镁合金基底正对铪靶材，打开挡板，溅射沉积后，得到表面镀有单层金属铪涂层的镁合金；所述抽真空是抽至3.0×10‑4Pa；所述通入氩气的条件为：调节总流量为65sccm，维持腔体压力为1.5Pa；所述预溅射金属铪靶材的条件为：时间6min，设置铪靶材的直流电源功率为125W，镁合金基底与铪靶材的距离为75mm，调节溅射腔体内压力为0.4～0.5Pa，设定镁合金基底温度为275℃，内腔沉积室温度为125℃，将铪靶材的直流电源功率调节至325W；所述溅射沉积的时间分别为45min、65min、90min。