[发明专利]物理蒸镀处理方法和物理蒸镀处理装置在审
| 申请号： | 201380053125.4 | 申请日： | 2013-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN104685096A | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 藤井博文 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 陈国慧;李婷 |
| 地址： | 日本兵库*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种在可靠地抑制靶极的偏差消耗的同时进行PVD处理的方法和装置。PVD处理方法包含：通过在真空腔室（2）内的阳极（3）与阴极（4）之间产生放电而使阴极（4）蒸发，来进行PVD处理；当进行PVD处理时，使冷却介质在形成于阳极（3）和阴极（4）中的冷却对象电极的冷却流路中流通，对该冷却对象电极进行冷却，并且切换该冷却介质的流通方向以使其反转。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种物理蒸镀处理方法，其特征在于，包含：准备物理蒸镀处理装置，所述物理蒸镀处理装置包括内部为真空的真空腔室和设置在该真空腔室的内部的阳极和阴极，上述阳极和上述阴极中的至少一方是冷却对象电极，在该冷却对象电极中形成有冷却流路的至少一部分；通过在上述阳极与上述阴极之间产生放电而使上述阴极蒸发，从而进行物理蒸镀处理；当进行上述物理蒸镀处理时使冷却介质在上述冷却流路中流通，对上述冷却对象电极进行冷却，并且切换该冷却介质的流通方向以使其反转。
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