[实用新型]用于激光加工多波长高功率半导体激光器光源系统

摘要

本实用新型提供一种用于激光加工多波长高功率半导体激光器光源系统，其中的半导体激光器叠阵的每个半导体激光器单元安装有波长不同的两组激光芯片，整形模块包括反射镜和滤光片，该滤光片镀有对波长为λ₁的激光高反射的膜和对波长为λ₂的激光高透的膜；反射镜设置于第一激光芯片组出光光路上，所述滤光片设置于第二激光芯片组出光光路上，反射镜镜面与滤光片平行设置，使得第二激光芯片组的激光通过滤光片与第一激光芯片组的激光合束出射。本实用新型输出能量高，可实现多波长宽光谱高功率输出，对于激光加工应用可以处理多种不同的金属材料，较之于单一波长，不同波长在对金属进行处理时，金属表面吸收效率更高。

主权项

用于激光加工多波长高功率半导体激光器光源系统，包括半导体激光叠阵和设置于半导体激光器出光方向的整形模块；其特征在于：半导体激光器叠阵的每个半导体激光器单元安装有波长不同的两组激光芯片，其中第一激光芯片组与第二激光芯片组出光平行，记第一激光芯片组的波长为λ₁，第二激光芯片组的波长为λ₂；所述整形模块包括反射镜和滤光片，该滤光片镀有对波长为λ₁的激光高反射的膜和对波长为λ₂的激光高透的膜；所述反射镜设置于第一激光芯片组出光光路上，所述滤光片设置于第二激光芯片组出光光路上，反射镜镜面与滤光片平行设置，使得第二激光芯片组的激光通过滤光片与第一激光芯片组的激光合束出射。