[发明专利]掩膜板,对其曝光的方法以及包括该掩膜板的液晶面板有效

专利信息
申请号: 201310728529.0 申请日: 2013-12-25
公开(公告)号: CN103760747A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 李蒙;王金杰 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G03F1/44;G03F7/20;G02F1/1335
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;刘华联
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种掩膜板,对其曝光的方法以及包括该掩膜板的液晶面板。在该掩膜板上设置有多个图案区,多个画素区按照其尺寸从掩膜板的中心到边缘成梯度变换的方式而设置。对该掩膜板曝光的方法,包括以下步骤,步骤一:水平地设置曝光罩,并检测其形变度;步骤二:在掩膜板上设置多个图案区,并且多个图案区根据所述曝光罩的形变度以从掩膜板的中心到边缘成梯度变换的方式而设置;步骤三:完成掩膜板曝光。根据本发明的掩膜板能够补偿由于曝光罩弯曲变形对掩膜板的曝光面积的影响。
搜索关键词: 掩膜板 曝光 方法 以及 包括 液晶面板
【主权项】:
一种掩膜板,在其上设置有多个图案区,所述多个画素区按照其尺寸从所述掩膜板的中心到边缘成梯度变换的方式而设置。
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