[发明专利]半导体片芯单颗化方法和装置有效
申请号: | 201310547843.9 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN103811419B | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 戈登·M·格里瓦纳 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 刘倜 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开涉及半导体片芯单颗化方法和装置。在一个实施例中,通过如下来将片芯从具有背层的晶片单颗化:将所述晶片放置到第一载体基板上,背层与载体基板相邻近;形成通过晶片的单颗化线以露出单颗化线内的背层;以及,利用机械装置施加局部化的压力到晶片以在单颗化线中分开所述背层。可以临近所述背层地通过第一载体基板施加局部化的压力,或者,可以通过附接到晶片的与所述背层相反的正面的第二载体基板施加所述局部化的压力。 | ||
搜索关键词: | 半导体 片芯单颗化 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种单颗化晶片的方法,包括:提供具有多个片芯的晶片,所述多个片芯形成在所述晶片上并且彼此以间隔分开,其中所述晶片具有相反的第一主表面和第二主表面,并且其中沿着所述第二主表面形成材料层;将所述晶片放置到第一载体基板上,其中所述材料层与所述第一载体基板相邻近;通过所述间隔对所述晶片进行单颗化,以形成单颗化线,其中单颗化包括停止在所述材料层附近;以及通过使机械装置沿所述第一主表面或所述第二主表面中的至少一个经过,来施加局部化的压力到所述晶片上,以在所述单颗化线中分开所述材料层,其中所述材料层包括金属层或晶片背面涂层膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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