[发明专利]外延片在审
申请号: | 201310523009.6 | 申请日: | 2013-10-29 |
公开(公告)号: | CN103794642A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 姜石民 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 许向彤;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 所公开的是一种外延片,包括衬底以及设置在所述衬底上的外延结构,其中所述外延结构包括第一外延层、设置在所述第一外延层上的第二外延层,以及设置在所述第一外延层与所述第二外延层之间的第三外延层,所述第三外延层在与所述第一外延层邻近的第一边界的周围具有第一掺杂浓度,并且在与所述第二外延层邻近的第二边界的周围具有不同于所述第一掺杂浓度的第二掺杂浓度。 | ||
搜索关键词: | 外延 | ||
【主权项】:
一种外延片,包括:衬底;以及设置在所述衬底上的外延结构,其中,所述外延结构包括:第一外延层;设置在所述第一外延层上的第二外延层;以及设置在所述第一外延层与所述第二外延层之间的第三外延层,所述第三外延层在与所述第一外延层邻近的第一边界的周围具有第一掺杂浓度,并且在与所述第二外延层邻近的第二边界的周围具有不同于所述第一掺杂浓度的第二掺杂浓度。
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