[发明专利]一种化学气相沉积方法无效
申请号: | 201310308530.8 | 申请日: | 2013-07-22 |
公开(公告)号: | CN103343332A | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 戴煜;胡祥龙;胡高健 | 申请(专利权)人: | 湖南顶立科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波 |
地址: | 410118 湖南省长沙市长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学气相沉积方法,以化学气相沉积系统进行化学气相沉积,化学气相沉积系统包括:化学气相沉积室,化学气相沉积室内设有发热体、隔热屏和与化学气相沉积室连通,且分散安装的多个喷嘴系统;真空系统,真空系统具有与多个喷嘴系统连通的真空管路,真空管路上设有真空开关阀;化学沉积气路系统,化学沉积气路系统具有与多个喷嘴系统连通的充气管路,充气管路上设有充气开关阀。本发明使用的化学气相沉积系统,设置有多个分散安装的喷嘴系统,即各个喷嘴系统并非安装在同一位置。同时设置了多个分别与多个喷嘴系统连接的真空管路和充气管路,能够有效的实现化学气相沉积产品均匀沉积,从而得到均匀材质的化学气相沉积成品。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 方法 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积方法,以化学气相沉积系统进行化学气相沉积,其特征在于,所述化学气相沉积系统包括:化学气相沉积室,所述化学气相沉积室内设有发热体(11)、隔热屏(3)和与所述化学气相沉积室连通,且分散安装的多个喷嘴系统;真空系统,所述真空系统具有与多个所述喷嘴系统连通的真空管路,所述真空管路上设有真空开关阀;化学沉积气路系统,所述化学沉积气路系统具有与多个所述喷嘴系统连通的充气管路,所述充气管路上设有充气开关阀。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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