[发明专利]薄膜沉积设备和利用其沉积薄膜的方法在审
| 申请号： | 201310274602.1 | 申请日： | 2013-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN103572242A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 李侑钟 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种薄膜沉积设备及利用薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。薄膜沉积设备包括等离子体产生单元、溅射单元和包含反应空间的处理室。等离子体产生单元在反应空间中产生等离子体。溅射单元独立于等离子体产生单元进行驱动，以在反应空间中形成电场并利用等离子体对靶材执行溅射工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 设备 利用 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：处理室，包括反应空间；等离子体产生单元，在反应空间中产生等离子体；以及溅射单元，在反应空间中形成电场，并利用等离子体对靶材执行溅射工艺，溅射单元独立于等离子体产生单元进行驱动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310274602.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：红外截止滤光膜、红外截止滤光片及镜头模组
- 下一篇：一种真空烧结炉
- 同类专利
- 专利分类
