[发明专利]多晶硅的制作方法无效

专利信息
申请号: 201310251372.7 申请日: 2013-06-24
公开(公告)号: CN104229802A 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 潘龙祥 申请(专利权)人: 潘龙祥
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212000 江苏省镇江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种多晶硅的制作方法,属于太阳能硅片制作技术领域。本发明通过下述技术方案来实现:将石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅;把工业硅粉碎并在流化床反应器中,用无水氯化氢(HCl)与之反应,生成三氯氢硅(SiHCl3),反应温度为300度,反应形成气态混合物(H2,HCl,SiHCl3,SiCl4,Si);将气态混合物过滤硅粉,冷凝SiHCl3、SiCl4,气态H2,HCl返回到反应中或排放到大气中,然后分解冷凝物SiHCl3、SiCl4,净化三氯氢硅;净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺,以高纯的SiHCl3在H2气氛中还原沉积而生成多晶硅。本发明多晶硅的制作方法的优点是节能降耗显著、成本低、质量好、采用综合利用技术,对环境不产生污染,具有明显的竞争优势。 
搜索关键词: 多晶 制作方法
【主权项】:
一种多晶硅的制作方法,其特征在于包括如下步骤:(1)将石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅;(2)把工业硅粉碎并在流化床反应器中,用无水氯化氢(HCl)与之反应,生成三氯氢硅(SiHCl3),反应温度为300度,反应形成气态混合物(Н2, НС1,  SiНС13,SiC14,Si);(3)将气态混合物过滤硅粉,冷凝SiНС13,SiC14,而气态Н2,НС1返回到反应中或排放到大气中,然后分解冷凝物SiНС13,SiC14,净化三氯氢硅;(4)净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺,以高纯的SiHCl3在H2气氛中还原沉积而生成多晶硅。
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