[发明专利]多晶硅的制作方法无效
申请号: | 201310251372.7 | 申请日: | 2013-06-24 |
公开(公告)号: | CN104229802A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 潘龙祥 | 申请(专利权)人: | 潘龙祥 |
主分类号: | C01B33/021 | 分类号: | C01B33/021 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212000 江苏省镇江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种多晶硅的制作方法,属于太阳能硅片制作技术领域。本发明通过下述技术方案来实现:将石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅;把工业硅粉碎并在流化床反应器中,用无水氯化氢(HCl)与之反应,生成三氯氢硅(SiHCl3),反应温度为300度,反应形成气态混合物(H2,HCl,SiHCl3,SiCl4,Si);将气态混合物过滤硅粉,冷凝SiHCl3、SiCl4,气态H2,HCl返回到反应中或排放到大气中,然后分解冷凝物SiHCl3、SiCl4,净化三氯氢硅;净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺,以高纯的SiHCl3在H2气氛中还原沉积而生成多晶硅。本发明多晶硅的制作方法的优点是节能降耗显著、成本低、质量好、采用综合利用技术,对环境不产生污染,具有明显的竞争优势。 | ||
搜索关键词: | 多晶 制作方法 | ||
【主权项】:
一种多晶硅的制作方法,其特征在于包括如下步骤:(1)将石英砂在电弧炉中冶炼提纯到98%并生成工业硅;(2)把工业硅粉碎并在流化床反应器中,用无水氯化氢(HCl)与之反应,生成三氯氢硅(SiHCl3),反应温度为300度,反应形成气态混合物(Н2, НС1, SiНС13,SiC14,Si);(3)将气态混合物过滤硅粉,冷凝SiНС13,SiC14,而气态Н2,НС1返回到反应中或排放到大气中,然后分解冷凝物SiНС13,SiC14,净化三氯氢硅;(4)净化后的三氯氢硅采用高温还原工艺,以高纯的SiHCl3在H2气氛中还原沉积而生成多晶硅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于潘龙祥,未经潘龙祥许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310251372.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。